[发明专利]曝光方法、曝光裝置、及元件制造方法

权利要求书

1.一种曝光装置，用于经由光学系统以照明光将基板曝光，所述曝光装置具备：

载台，其具有用于保持所述基板的保持具；

搬送系统，其具有能将所述基板从其表面侧以非接触方式支承，至少可于与所述光学系统的光轴平行的铅直方向移动的第1支承构件，且其搬送所述基板至自所述光学系统分离设定的装载位置；

第2支承构件，设置于所述载台，能将通过所述第1支承构件以非接触地支承的基板从其背面侧支承，且可与所述第1支承部独立地于所述铅直方向移动；

驱动装置，其于配置所述载台的所述装载位置，可至少于所述铅直方向相对移动所述第1支承构件与所述第2支承构件与所述保持具；以及

控制器，其控制所述搬送系统及所述驱动装置，以经由所述第1支承构件自所述搬送系统搬送所述基板至所述保持具。

2.根据权利要求1所述的曝光装置，其中，通过所述搬送系统进行所述基板的变形控制、温度调整及预对准的至少一方。

3.根据权利要求1或2所述的曝光装置，其中，控制所述第1支承构件对所述基板的斥力与引力的至少一方以控制所述基板的变形。

4.根据权利要求1至3中任一权利要求所述的曝光装置，其中，所述第1支承构件包含以非接触方式保持所述基板的夹具构件、以及所述基板的温度调整构件；

所述基板，一边通过所述夹具构件以非接触方式予以支承，一边通过所述温度调整构件调整温度。

5.根据权利要求4所述的曝光装置，其中，所述夹具构件包含利用贝努里效果的贝努里夹具。

6.根据权利要求1至5中任一权利要求所述的曝光装置，其进一步具备测量系统，其测量所述基板的位置信息；

于通过所述保持具保持所述基板前，通过所述测量系统测量所述基板的位置信息。

7.根据权利要求6所述的曝光装置，其中，根据通过所述测量系统测量的所述基板的位置信息，调整所述基板与所述保持具的相对位置关系。

8.根据权利要求1至7中任一权利要求所述的曝光装置，其中，所述搬送系统具有保持构件，所述保持构件将通过所述第1支承构件以非接触方式支承的基板，从与其表面不同的部分予以接触保持。

9.根据权利要求1至8中任一权利要求所述的曝光装置，其中，所述搬送系统具有搬送构件，所述搬送构件搬送所述基板至所述载台的上方且所述第1支承构件的下方处。

10.一种元件制造方法，包含：

通过权利要求1至9中任一权利要求所述的曝光装置将基板曝光的动作；以及

使曝光后的所述基板显影的动作。

11.一种曝光方法，用于经由光学系统以照明光将基板曝光，所述曝光方法包含：

将具有用于保持所述基板的保持具的载台，配置于自所述光学系统分离设定的装载位置的动作；

于所述载台的上方，通过至少可于与所述光学系统的光轴平行的铅直方向移动的第1支承构件将所述基板从其表面侧以非接触方式支承的动作；以及

将通过所述第1支承构件以非接触的方式支承的该基板，通过可与所述第1支承构件独立地于所述铅直方向移动的第2支承构件，从其背面侧在所述载台上支承，

至少于所述铅直方向相对移动所述第1、第2支承构件与所述保持具，以将通过所述第1、第2支承构件支承的所述基板搬送至所述保持具的动作。

12.根据权利要求11所述的曝光方法，其中，通过具有所述第1支承构件的所述基板的搬送系统，进行所述基板的变形控制、温度调整及预对准的至少一方。

13.根据权利要求11或12所述的曝光方法，其中，控制所述第1支承构件对所述基板的斥力与引力的至少一方以控制所述基板的变形。