[发明专利]基板结构及其制作方法有效

专利信息
申请号: 201610832984.9 申请日: 2016-09-20
公开(公告)号: CN107845610B 公开(公告)日: 2019-11-05
发明(设计)人: 许诗滨 申请(专利权)人: 凤凰先驱股份有限公司
主分类号: H01L23/14 分类号: H01L23/14;H01L23/498;H01L21/48
代理公司: 北京汇智英财专利代理事务所(普通合伙) 11301 代理人: 牟长林
地址: 开曼群岛KY1-1205大开曼*** 国省代码: 开曼群岛;KY
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 连接层 金属基板 金属核心层 基板结构 开口 电极垫 内接 电材料层 电性连接 包覆 制作
【权利要求书】:

1.一种基板结构,其特征在于,包括:

一金属基板;

一第一连接层,设置于部分的该金属基板的一上表面;

一金属核心层,设置于该第一连接层的一表面上,且具有一开口;

一第二连接层,设置于部分的该金属基板的该上表面并位于该开口内;

一内接组件,设置于该第二连接层的一表面上并位于该开口内,且具有多个电极垫;

一导电柱层,设置于该金属核心层上及该内接组件的部分电极垫上;

一介电材料层,部分地包覆该第一连接层、该金属核心层、该第二连接层、该内接组件以及该导电柱层;

一导线层,设置于该介电材料层以及该导电柱层上;以及

一导热绝缘层,设置于该金属基板的下表面,

其中,该金属核心层借由该金属基板、该第一连接层以及该第二连接层电性连接这些电极垫的其中之一,并且该导线层借由该导电柱层电性连接该金属核心层以及该内接组件的部分电极垫。

2.如权利要求1所述的基板结构,其特征在于,该内接组件还具有一第一表面以及一第二表面,这些电极垫分别设置于该内接组件的该第一表面以及该第二表面上,其中,该金属核心层借由该金属基板、该第一连接层以及该第二连接层电性连接该内接组件的该第一表面的这些电极垫其中的至少一个。

3.如权利要求2所述的基板结构,其特征在于,该导电柱层电性连接该内接组件的该第二表面的这些电极垫。

4.如权利要求1所述的基板结构,其特征在于,该导电柱层具有多个导电柱,这些导电柱的形状分别为圆柱形、三角柱形、矩形柱形或不规则柱形。

5.如权利要求1所述的基板结构,其特征在于,该介电材料层为一铸模化合物层,该铸模化合物层为酚醛基树脂、环氧基树脂以及硅基树脂的其中之一。

6.如权利要求1所述的基板结构,其特征在于,该金属核心层的材料为铜、镍、不锈钢或其组合。

7.如权利要求1所述的基板结构,其特征在于,该金属核心层为一完整体或为一图案化金属核心层。

8.一种基板结构的制作方法,其特征在于,包括下列步骤:

提供一金属基板;

提供具有多个电极垫的一内接组件;

于该金属基板的一上表面形成一第一连接层以及一第二连接层;

于该第一连接层的一表面上形成具有一开口的一金属核心层;

将该内接组件设置于该第二连接层的一表面上并设置于该开口内;

于该金属基板的该上表面形成一介电材料层,使其部分地包覆该第一连接层、该金属核心层、该第二连接层以及该内接组件;

露出该金属核心层的一端以及部分电极垫的一端;

于露出的该金属核心层的一端上以及这些电极垫的一端上形成一导电柱层;

于该介电材料层以及该导电柱层上形成一导线层;以及

于该金属基板的下表面形成一导热绝缘层。

9.一种基板结构的制作方法,其特征在于,包括下列步骤:

提供一金属基板;

提供一内接组件,其具有多个电极垫,且于这些电极垫上形成至少一导电柱;

于该金属基板的一上表面形成一第一连接层以及一第二连接层;

于该第一连接层的一表面上形成具有一开口的一金属核心层,且于该金属核心层相对于该第一连接层的该表面的一端形成至少一另一导电柱;

将该内接组件设置于该第二连接层的一表面上并设置于该开口内;

形成一介电材料层,使其包覆该第一连接层、该金属核心层、该第二连接层、该内接组件、该导电柱及该另一导电柱;露出于该金属核心层上形成的该另一导电柱以及于这些电极垫上形成的该导电柱;

于该介电材料层、该导电柱及该另一导电柱上形成一导线层;以及

于该金属基板的下表面形成一导热绝缘层。

10.如权利要求9所述的制作方法,其特征在于,该导电柱及该另一导电柱在研磨该介电材料层后开始露出。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于凤凰先驱股份有限公司,未经凤凰先驱股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201610832984.9/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top