[发明专利]CMP设备抛光头掉片检测方法和系统在审
| 申请号： | 201610854416.9 | 申请日： | 2016-09-27 |
| 公开（公告）号： | CN106425828A | 公开（公告）日： | 2017-02-22 |
| 发明（设计）人： | 孙浩明;路新春;雒建斌;温诗铸;王同庆;李昆;沈攀 | 申请（专利权）人： | 天津华海清科机电科技有限公司;清华大学 |
| 主分类号： | B24B37/005 | 分类号： | B24B37/005;B24B37/34;B24B49/16;B24B49/00;B24B55/00 |
| 代理公司： | 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙)11201 | 代理人： | 张大威 |
| 地址： | 300350 天津市津*** | 国省代码： | 天津;12 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | cmp 设备 抛光 头掉片 检测 方法 系统 | ||
【权利要求书】：
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