[发明专利]一种通过磁控溅射直流共溅射制备Ni-Co-Mn-Ti合金薄膜的方法有效

专利信息
申请号: 201610871554.8 申请日: 2016-09-30
公开(公告)号: CN107881475B 公开(公告)日: 2019-11-01
发明(设计)人: 马胜灿;刘凯;张林;钟震晨;钟明龙;江庆政 申请(专利权)人: 江西理工大学
主分类号: C23C14/35 分类号: C23C14/35;C23C14/14
代理公司: 西安铭泽知识产权代理事务所(普通合伙) 61223 代理人: 李振瑞
地址: 341000 江西省赣州*** 国省代码: 江西;36
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摘要:
搜索关键词: 一种 通过 磁控溅射 直流 溅射 制备 ni co mn ti 合金 薄膜 方法
【权利要求书】:

1.一种通过磁控溅射共溅射制备Ni-Co-Mn-Ti合金薄膜的方法,其特征在于,所述方法包括以下步骤:

(一)选取靶材:按化学计量比选取NiMnTi合金靶材和Co单质靶材进行共溅射,靶材的直径都是60mm,其中合金靶材的厚度为3mm,Co单质靶材的厚度为1~2mm;

(二)基底加热:将选好的合金靶材和Co单质靶材放在溅射室的溅射靶之上固定好,关闭腔盖抽真空到10-4Pa以下,加热基底,加热温度为200℃~700℃;

(三)溅射室压强调整:充入氩气,通过调整流量仪和闸板阀控制溅射室内压强范围为0.25Pa~2.5Pa;

(四)直流共溅射:合金靶的溅射功率为30W~70W,单质靶溅射功率为5W~30W,溅射时间0.5h~2.5h。

2.按照权利要求1所述通过磁控溅射共溅射制备Ni-Co-Mn-Ti合金薄膜的方法,其特征在于:所述的靶材纯度超过99.95%,其中NiMnTi合金靶材中各成分的原子比为:Ni 25~45,Mn 25~45,Ti 5~25。

3.按照权利要求1所述通过磁控溅射共溅射制备Ni-Co-Mn-Ti合金薄膜的方法,其特征在于:步骤(二)进行基底加热前先调整加热电流旋钮至3~4A预热4~6分钟,加大电流到5~8A,具体电流视所选温度调整,使温度迅速上升到指定温度。

4.按照权利要求1所述通过磁控溅射共溅射制备Ni-Co-Mn-Ti合金薄膜的方法,其特征在于:步骤(三)所述溅射室压强调整是先稍微关紧闸板阀,但不关到底,打开氩气瓶总开关,调整压力示数到0.375MPa,打开氩气进气阀,调节流量仪为24,然后通过旋转闸板阀调节溅射室内压强到所需压强。

5.按照权利要求1所述通过磁控溅射共溅射制备Ni-Co-Mn-Ti合金薄膜的方法,其特征在于:步骤(四)所述直流共溅射是在溅射室内压强和温度都稳定后调整溅射靶的功率旋钮,使合金靶和单质靶同时起辉进行共溅射,此时只打开靶材挡板而不打开基底挡板,预溅射10~15min,然后打开基底挡板开始沉积薄膜。

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