[发明专利]CMP过程中铜层厚度在线测量系统及其控制方法在审
申请号: | 201610875030.6 | 申请日: | 2016-09-30 |
公开(公告)号: | CN106197249A | 公开(公告)日: | 2016-12-07 |
发明(设计)人: | 李弘恺;靳富;田芳馨;王同庆;李昆;路新春;雒建斌 | 申请(专利权)人: | 天津华海清科机电科技有限公司;清华大学 |
主分类号: | G01B7/06 | 分类号: | G01B7/06;G05D5/03 |
代理公司: | 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 | 代理人: | 张大威 |
地址: | 300350 天津市津*** | 国省代码: | 天津;12 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | cmp 过程 中铜层 厚度 在线 测量 系统 及其 控制 方法 | ||
【说明书】:
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于天津华海清科机电科技有限公司;清华大学,未经天津华海清科机电科技有限公司;清华大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201610875030.6/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种矩形工件位置和角度测量方法
- 下一篇:一种双列式二维时栅直线位移传感器