[发明专利]分色器结构及其制造方法、图像传感器及光学设备有效
申请号: | 201610875262.1 | 申请日: | 2016-09-30 |
公开(公告)号: | CN107037519B | 公开(公告)日: | 2020-10-20 |
发明(设计)人: | 金一焕;金度润 | 申请(专利权)人: | 三星电子株式会社 |
主分类号: | G02B5/20 | 分类号: | G02B5/20;H01L27/146 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 翟然 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 分色 结构 及其 制造 方法 图像传感器 光学 设备 | ||
1.一种分色器,包括:
多个分色器元件,配置为根据波长将入射光分成多个出射光,
其中该分色器元件的至少一个包括:
第一元件部分;
第二元件部分,设置为相对于该第一元件部分偏移以与该第一元件部分部分地重叠;以及
蚀刻停止层,提供在该第一元件部分和第二元件部分之间,
其中所述蚀刻停止层的第一表面的一部分与所述第二元件部分直接接触,以及所述第一表面的其余部分远离所述第二元件部分且与介电材料直接接触,或者
所述蚀刻停止层的第二表面的一部分与所述第一元件部分直接接触,以及所述第二表面的其余部分远离所述第一元件部分且与所述介电材料直接接触。
2.如权利要求1所述的分色器,其中
该蚀刻停止层完全覆盖所述第一元件部分的面对所述第二元件部分的表面。
3.如权利要求1所述的分色器,其中
该蚀刻停止层完全覆盖所述第二元件部分的面对所述第一元件部分的表面。
4.如权利要求1所述的分色器,其中该蚀刻停止层包括相对于该第一和第二元件部分的至少一个具有1.5或更大的蚀刻选择性的材料。
5.如权利要求1所述的分色器,其中
该第一和第二元件部分的至少一个包括氧化物材料,并且
该蚀刻停止层包括非氧化物材料。
6.如权利要求1所述的分色器,其中
该蚀刻停止层包括氮化物材料,并且
该第一和第二元件部分的至少一个包括非氮化物材料。
7.如权利要求1所述的分色器,其中
该第一和第二元件部分的至少一个包括钛(Ti)氧化物、铌(Nb)氧化物和钽(Ta)氧化物的至少一个,并且
该蚀刻停止层包括硅(Si)氮化物。
8.如权利要求1所述的分色器,其中
该第一和第二元件部分的至少一个包括Si氮化物,并且
该蚀刻停止层包括Si氧化物。
9.如权利要求1所述的分色器,还包括具有所述介电材料的介电层,
其中该分色器元件埋设在该介电层中,
所述介电材料具有相对于所述第一和第二元件部分较低的折射系数。
10.如权利要求1所述的分色器,其中
设置在该多个分色器元件的中心部分的分色器元件包括排列在光轴上而不彼此偏移的第一和第二元件部分,并且
设置在该多个分色器元件的该中心部分之外的区域中的该分色器元件的每一个包括彼此偏移的第一元件部分和第二元件部分。
11.如权利要求10所述的分色器,其中该第一元件部分和该对应的第二元件部分之间的偏移距离随着远离该中心部分而增加。
12.如权利要求10所述的分色器,其中设置在该中心部分之外的区域中的该第一元件部分和该对应的第二元件部分与倾斜入射在其上的入射光的传播方向对齐。
13.如权利要求1所述的分色器,其中该分色器元件的至少一个还包括:
第三元件部分,与该第二元件部分部分地重叠;以及
第二蚀刻停止层,提供在该第二元件部分和该第三元件部分之间。
14.一种图像传感器,包括:
如权利要求1所述的分色器;以及
像素阵列,包括多个像素,该多个像素配置为检测穿过该分色器出来的光。
15.一种光学设备,包括:
至少一个透镜;以及
权利要求14所述的图像传感器,该图像传感器配置为将通过该至少一个透镜的光转换成电图像信号。
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