[发明专利]光学薄膜的缺陷信息综合管理装置及其方法

权利要求书

1.一种光学薄膜的缺陷信息综合管理装置，其特征在于，包括：

缺陷信息收集部，其收集从一次工序的缺陷管理机及二次工序的缺陷管理机传送的对于光学薄膜的缺陷信息；

缺陷信息匹配部，其使一次工序的缺陷信息与二次工序的缺陷信息匹配；

缺陷检测判断部，其基于匹配的结果，以二次工序的缺陷信息为基准，将一次工序的缺陷信息进行比较来判断有无相同缺陷的检测；

缺陷信息修正部，其在检测到相同缺陷的情况下，算出一次工序及二次工序中的该缺陷信息的位置之差，并基于算出的位置之差来修正一次工序的缺陷信息；及

缺陷信息汇总部，其对修正后的一次工序的缺陷信息及二次工序的缺陷信息进行汇总。

2.根据权利要求1所述的光学薄膜的缺陷信息综合管理装置，其特征在于，

所述一次工序的缺陷管理机在一次工序中检测光学薄膜的缺陷，并收集与该缺陷相关的缺陷信息向所述缺陷信息收集部传送，所述二次工序的缺陷管理机在二次工序中检测光学薄膜的缺陷，并收集与该缺陷相关的缺陷信息向所述缺陷信息收集部传送。

3.根据权利要求1所述的光学薄膜的缺陷信息综合管理装置，其特征在于，

所述一次工序的缺陷管理机还包括在检测到缺陷的位置进行条形码标记的条形码标记机，

从所述二次工序的缺陷管理机传送的缺陷信息包括由所述一次工序的缺陷管理机进行了条形码标记的条形码信息。

4.根据权利要求1所述的光学薄膜的缺陷信息综合管理装置，其特征在于，

所述缺陷信息收集部收集包括索引、缺陷的位置坐标、大小及强度中的至少任一个信息的缺陷信息，所述缺陷的位置坐标即X轴与Y轴坐标。

5.根据权利要求1所述的光学薄膜的缺陷信息综合管理装置，其特征在于，

在对于所述光学薄膜的缺陷信息包括索引的情况下，向由所述一次工序的缺陷管理机检测的各个缺陷赋予所述索引，

在由所述二次工序的缺陷管理机要检测的各个缺陷中的检测到的缺陷的位置坐标被赋予了通过一次工序的缺陷管理机标记的条形码信息的情况下，赋予与通过一次工序的缺陷管理机赋予的索引值相同的值。

6.根据权利要求4所述的光学薄膜的缺陷信息综合管理装置，其特征在于，

在所述索引相同的缺陷的情况下，所述缺陷检测判断部判断为相同缺陷，或者在对于所述光学薄膜的缺陷信息中的至少两个以上的信息一致的情况下，所述缺陷检测判断部判断为膜上的相同位置的缺陷。

7.根据权利要求1所述的光学薄膜的缺陷信息综合管理装置，其特征在于，

在通过所述缺陷检测判断部未检测到具有膜上的相同位置的缺陷信息的情况下，所述缺陷信息汇总部不进行另外的修正而将一次工序的缺陷信息与二次工序的缺陷信息汇总。

8.根据权利要求1所述的光学薄膜的缺陷信息综合管理装置，其特征在于，

所述光学薄膜的缺陷信息综合管理装置还包括基于所述汇总的一次工序的缺陷信息及二次工序的缺陷信息进行监控的综合管理部。

9.一种光学薄膜的缺陷信息综合管理方法，其特征在于，包括：

通过缺陷信息收集部，收集从一次工序的缺陷管理机及二次工序的缺陷管理机传送的对于光学薄膜的缺陷信息的步骤；

通过缺陷信息匹配部，使所述一次工序的缺陷信息与所述二次工序的缺陷信息匹配的步骤；

通过缺陷检测判断部，基于匹配的结果，以所述二次工序的缺陷信息为基准，将所述一次工序的缺陷信息进行比较来判断有无相同缺陷的检测的步骤；

通过缺陷信息修正部，在检测到相同缺陷的情况下，算出一次工序及二次工序中的该缺陷信息的位置之差，并基于算出的位置之差来修正所述一次工序的缺陷信息的步骤；及

通过缺陷信息汇总部，对修正后的所述一次工序的缺陷信息及所述二次工序的缺陷信息进行汇总的步骤。