[发明专利]制备供微结构诊断的样本的方法和供微结构诊断的样本

权利要求书

1. 一种用于制备用于微结构诊断的样本（P）的方法，其中，通过材料烧蚀处理在样本主体上制备样本部分（PA），且随后在所述样本部分上产生检查区域，所述检查区域包括待检查的目标区域（ZB），所述方法包括以下步骤：

在所述样本部分的至少一个表面（OB、OB1、OB2）上产生包括所述目标区域的阶台结构区（TBZ），其中，出于产生所述阶台结构区的目的，通过材料烧蚀射束处理在所述目标区域近旁产生至少一个凹口（K、K1、K2、K3），所述凹口带有相对于所述表面倾斜地延伸的侧翼（F1、F2）；以及

借助于离子束（IB）在所述阶台结构区（TBZ）的区域中从所述样本部分（PA）的表面烧蚀材料，所述离子束倾斜于所述凹口（K、K1、K2、K3）的广度方向在掠入射下辐射到所述表面上，使得所述目标区域（ZB）沿所述离子束（IB）的入射辐射方向位于所述凹口后方，且由于在所述凹口后方的区域中的阶台结构，借由离子束处理使所述表面实质上平行于所述表面的原始高度凹入。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，制备适合于借助透射电子显微术（TEM）进行微结构诊断的样本（P），其中，在所述样本部分中产生电子透明的检查区域，所述目标区域（ZB）位于所述检查区域中。

3.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，通过激光束处理将所述凹口（K、K1、K2、K3）引入所述表面（OB、OB1、OB2）中。

4.根据前述权利要求中的任一项所述的方法，其特征在于，在所述阶台结构区（TBZ）中产生距彼此成一定距离（A）地延伸的多个凹口（K1、K2），具体地平行于彼此延伸的凹口，其中在所述阶台结构区（TBZ）中优选地产生布置成距彼此一定距离的两个、三个、四个、五个或六个凹口。

5.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，相邻凹口之间的所述距离（A）与所述凹口（K1、K2）的宽度匹配，使得所述距离落在单个凹口的宽度的两倍与十倍之间，具体地两倍与五倍之间。

6. 根据权利要求4或5所述的方法，其特征在于，产生所述凹口使得紧邻的凹口之间的距离落在20 µm到100 µm的范围中。

7. 根据前述权利要求中的任一项所述的方法，其特征在于，产生所述凹口（K）使得所述表面处的宽度落在10 µm到50 µm的范围中。

8.根据前述权利要求中的任一项所述的方法，其特征在于，产生具有沿广度方向变化的宽度的至少一个凹口（K3），其中，优选地，没有另外的凹口位于该凹口与所述目标区域之间。

9.根据前述权利要求中的任一项所述的方法，其特征在于，产生具有带有变化的广度方向的非线性广度的至少一个凹口（K3），其中，优选地，没有另外的凹口位于该凹口与所述目标区域（ZB）之间。

10.根据前述权利要求中的任一项所述的方法，其特征在于，在两侧上处理所述样本部分（PA），其中，在所述样本部分的第一表面（OB1）与所述样本部分的相对第二表面（OB2）两者上引入至少一个凹口，使得分别在所述样本部分的两个表面上出现一个阶台结构区；以及随后借助于掠入射下的离子束在所述第一表面和所述第二表面上烧蚀所述阶台结构区的区域中的材料。

11.根据前述权利要求中的任一项所述的方法，其特征在于，在用于产生凹口的材料烧蚀射束处理之前，将保护层（SS）施加于所述表面，随后穿过所述保护层产生所述样本部分（PA）中的所述凹口（K），且随后从所述表面移除所述保护层。

12.根据前述权利要求中的任一项所述的方法，其特征在于，在当借助于所述离子束烧蚀所述材料时的烧蚀期间，使所述离子束（IB）的入射辐射方向沿方位方向和/或沿竖直方向周期性地或不定期地在一定入射角范围内变化。

13.根据前述权利要求中的任一项所述的方法，其特征在于线中厚度确定，其用于在借助于离子束烧蚀材料时确定所述阶台结构区的区域中的所述样本部分的厚度。