[发明专利]一种大视场曝光系统

权利要求书

1.一种大视场曝光系统，其特征在于，包括沿光路依次设置的光源、照明模块、掩模台、投影物镜模块和工件台，所述投影物镜模块由若干子投影物镜单元沿非扫描方向拼接而成，每个所述子投影物镜单元包括平板、楔板和透镜，所述平板、楔板和透镜由负折射率材料或在曝光波段折射率为负的材料制成。

2.根据权利要求1所述的大视场曝光系统，其特征在于，每个所述子投影物镜单元包括两个楔板、两个平板和两个透镜依次排列而成，其中两个所述楔板相对设置，两个所述透镜之间设有空气间隙。

3.根据权利要求1所述的大视场曝光系统，其特征在于，每个所述子投影物镜单元包括两个平板、三个透镜和两个楔板依次排列而成，其中三个所述透镜两两之间均设有空气间隙，两个所述楔板相对设置。

4.根据权利要求2或3所述的大视场曝光系统，其特征在于，两个所述楔板之间沿楔面方向相对运动以调节物面和像面的共轭距。

5.根据权利要求2或3所述的大视场曝光系统，其特征在于，其中一个所述楔板绕X轴旋转以改变像面在Y方向的倍率，绕Z轴旋转以改变像面在Y方向的倾斜角度。

6.根据权利要求2或3所述的大视场曝光系统，其特征在于，两个所述平板绕X轴旋转以改变像面在Y方向的水平位置，绕Y轴旋转以改变像面在X方向的水平位置。

7.根据权利要求2或3所述的大视场曝光系统，其特征在于，相邻两个所述透镜之间的空气间隙沿Z方向发生变化以改变子投影物镜单元的倍率。

8.根据权利要求1所述的大视场曝光系统，其特征在于，每个所述子投影物镜单元包括一侧为平面另一侧为球面的第一透镜、双侧均为球面的第二透镜、一面为球面另一面为楔形平面的第三透镜、楔板和平板依次排列而成。

9.根据权利要求8所述的大视场曝光系统，其特征在于，所述第一透镜和第二透镜相对一侧的球面的曲率半径对应，所述第二透镜和第三透镜相对一侧的球面的曲率半径对应。

10.根据权利要求9所述的大视场曝光系统，其特征在于，所述第一透镜和第三透镜为平凸透镜或平凹透镜。

11.根据权利要求9所述的大视场曝光系统，其特征在于，所述第二透镜为双凹透镜或双凸透镜或弯月透镜。

12.根据权利要求8所述的大视场曝光系统，其特征在于，所述第一透镜、第二透镜、第三透镜两两之间的空气间隙沿Z方向发生变化以改变子投影物镜单元的倍率。

13.根据权利要求8所述的大视场曝光系统，其特征在于，所述楔板绕X轴旋转以改变像面在Y方向的倍率，绕Z轴旋转以改变像面在Y方向的倾斜角度。

14.根据权利要求8所述的大视场曝光系统，其特征在于，所述平板绕X轴旋转以改变像面在Y方向的水平位置，绕Y轴旋转以改变像面在X方向的水平位置。

15.根据权利要求1所述的大视场曝光系统，其特征在于，所述投影物镜模块的纵截面为矩形结构，所述矩形的高度D与物距d₁，像距d₂，负折射材料折射率n’及入射光半角θ₁之间的关系为