[发明专利]一种光学测量装置和方法

权利要求书

1.一种光学测量装置，其特征在于，包括

一基板载台，用于放置基板，所述基板载台位于一XYZ三维坐标系，其中Z方向垂直于所述基板载台的承载面；

一光学检测载台框架，从所述基板载台一侧延伸至相对的一侧，所述光学检测载台框架上承载有一光学检测滑块，可沿所述光学检测载台框架在X方向滑动；

框架测量单元，用于检测所述光学检测载台框架的变形量，所述框架测量单元包括两个沿所述X方向设置的第一干涉仪测量组件，所述第一干涉仪测量组件用于测量所述光学检测载台框架在Y方向的变形量Yref和绕Z轴的旋转变形量Rzref；

一光学检测单元，固定在所述光学检测滑块上，随着所述光学检测滑块沿所述光学检测载台框架移动；

一基板载台位置测量模块，用于测量所述基板载台的位置，所述基板载台位置测量模块包括两个与所述第一干涉仪测量组件布置在同一水平面的第二干涉仪测量组件，所述第二干涉仪测量组件包括基板载台X干涉仪控制测量系统和基板载台Y干涉仪控制测量系统，所述基板载台X干涉仪控制测量系统用于控制所述基板载台在所述X方向上的运动并测量所述基板载台在所述X方向的位置X_ws和在XZ平面上的旋转量Rzx_ws，所述基板载台Y干涉仪控制测量系统用于控制所述基板载台在Y方向的运动并测量所述基板载台在YZ平面的旋转量Rzy_ws和相对于X轴的倾斜量Rx_ws；

一光学检测位置测量模块，用于测量所述光学检测单元的位置；

根据所述框架测量单元测量得到的所述光学检测载台框架的变形量并利用所述基板载台X干涉仪控制测量系统和基板载台Y干涉仪控制测量系统对所述基板载台的位置和/或所述光学检测单元的位置进行校正的校正模块。

2.如权利要求1所述的光学测量装置，其特征在于，所述光学检测载台框架为桥式，包括两个支撑立柱和固定在所述两个支撑立柱上的横梁，所述光学检测滑块在所述横梁上滑动。

3.如权利要求2所述的光学测量装置，其特征在于，两个所述第一干涉仪测量组件与所述两个支撑立柱一一对应，并发射测量光束至所述两个支撑立柱上。

4.如权利要求3所述的光学测量装置，其特征在于，两个所述第二干涉仪测量组件发射测量光束至所述基板载台。

5.如权利要求3所述的光学测量装置，其特征在于，两个所述第一干涉仪测量组件中至少一个所述第一干涉仪测量组件为双轴干涉仪，双轴干涉仪发出的两轴测量光束沿与所述支撑立柱方向平行的方向平行分布。

6.如权利要求2或3所述的光学测量装置，其特征在于，所述框架测量单元还包括与所述光学检测滑块滑动方向垂直的方向平行设置的第三干涉仪测量组件，所述第三干涉仪测量组件沿所述光学检测滑块滑动方向发射测量光束至所述光学检测载台框架。

7.如权利要求6所述的光学测量装置，其特征在于，所述第三干涉仪测量组件为单轴干涉仪。

8.如权利要求6所述的光学测量装置，其特征在于，所述第三干涉仪测量组件为双轴干涉仪。

9.如权利要求1所述的光学测量装置，其特征在于，所述光学测量装置还包括用于测调所述光学检测单元与基板上表面距离的高度调整模块。

10.如权利要求1所述的光学测量装置，其特征在于，所述光学测量装置还包括一支撑底座，用于放置所述基板载台和光学检测载台框架。

11.如权利要求10所述的光学测量装置，其特征在于，所述支撑底座从下至上包括减震单元和大理石。

12.如权利要求1所述的光学测量装置，其特征在于，所述光学检测单元用于检测曝光后基板上图形的线宽、套刻偏差、标记位置偏差和/或光刻胶胶厚。