[发明专利]一种光学测量装置和方法

权利要求书

1.一种光学测量装置，其特征在于，包括

一基板载台，用于放置基板；

一光学检测载台框架，从所述基板载台一侧延伸至相对的一侧，所述光学检测载台框架上承载有一光学检测滑块，可沿所述光学检测载台框架滑动；

一光学检测单元，固定在所述光学检测滑块上，随着所述光学检测滑块沿所述光学检测载台框架移动，所述光学检测单元包括标记位置测量模块；

一基板载台位置测量模块，用于测量所述基板载台的位置；

一光学检测单元位置测量模块，用于测量所述光学检测单元的位置；

以及校正模块，根据所述基板载台的位置和所述光学检测单元的位置获得所述基板载台和所述光学检测单元运动所引起的标记位置测量偏差，之后对所述标记位置测量模块测得的标记位置进行校正；

所述基板载台上还布设有带校准标记的基准板，所述带校准标记的基准板包括横向基准板和与所述横向基准板垂直的纵向基准板，所述横向基准板沿所述基板载台X向布置，用于校准所述光学检测单元沿X向运动时所述基板相对所述光学检测单元的Y向位置偏差，所述纵向基准板沿所述基板载台Y向布置，用于校准所述基板载台沿Y向运动时所述基板相对所述光学检测单元的X向位置偏差。

2.如权利要求1所述的光学测量装置，其特征在于，所述基板载台位置测量模块包括基板载台Y向测量组件和基板载台X向测量组件，所述基板载台Y向测量组件测量所述基板载台的Y向位移量，所述基板载台X向测量组件测量所述基板载台Y向运动中的X向偏移量。

3.如权利要求1所述的光学测量装置，其特征在于，所述光学检测单元位置测量模块包括光学检测单元X向测量组件、光学检测滑块X向测量组件以及光学检测单元Y向测量组件，所述光学检测单元X向测量组件测量所述光学检测单元的X向位移量，所述光学检测滑块X向测量组件测量所述光学检测滑块的X向位移量，所述光学检测单元Y向测量组件用于测量所述光学检测单元X向运动中所述光学检测单元相对于光学检测载台框架的Y向偏移量。

4.如权利要求2所述的光学测量装置，其特征在于，所述基板载台Y向测量组件和基板载台X向测量组件均采用干涉仪。

5.如权利要求3所述的光学测量装置，其特征在于，所述光学检测单元X向测量组件和光学检测滑块X向测量组件采用干涉仪，所述光学检测单元Y向测量组件采用激光位移传感器。

6.如权利要求1所述的光学测量装置，其特征在于，所述光学检测单元还包括用于测调所述光学检测单元与基板上表面距离的高度调整模块。

7.如权利要求1所述的光学测量装置，其特征在于，所述光学测量装置还包括支撑底座，用于承载所述基板载台和光学检测载台框架。

8.如权利要求7所述的光学测量装置，其特征在于，所述支撑底座从下至上包括减震单元和大理石。

9.如权利要求1所述的光学测量装置，其特征在于，所述光学检测单元还用于检测曝光后基板上的图形线宽、套刻偏差、标记位置偏差和/或光刻胶胶厚。