[发明专利]半导体发光器件有效

专利信息
申请号: 201610881598.9 申请日: 2016-10-09
公开(公告)号: CN106653965B 公开(公告)日: 2018-12-28
发明(设计)人: 李振燮;金定燮;成汉珪;权纯祚;延智慧;李东建 申请(专利权)人: 三星电子株式会社
主分类号: H01L33/06 分类号: H01L33/06
代理公司: 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 代理人: 韩明星;刘灿强
地址: 韩国京畿*** 国省代码: 韩国;KR
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 半导体 发光 器件
【说明书】:

提供了一种半导体发光器件,其包括:第一导电型半导体层;有源层,设置在第一导电型半导体层上,并且包括多个量子垒层和包含In的多个量子阱层,所述多个量子垒层和所述多个量子阱层彼此交替地堆叠,所述多个量子阱层包括第一量子阱层和第二量子阱层;第二导电型半导体层,设置在有源层上,其中,第一量子阱层设置成比第二量子阱层较接近于第一导电型半导体层,第二量子阱层设置成比第一量子阱层较接近于第二导电型半导体层,其中,第二量子阱层的厚度大于第一量子阱层的厚度,其中,第一量子阱层和第二量子阱层中的每个包括In成分的量变化的至少一个分级层,第二量子阱层的至少一个分级层具有比第一量子阱层的至少一个分级层大的厚度。

本申请要求于2015年11月3日在韩国知识产权局提交的第10-2015-0153825号韩国专利申请的优先权,所述韩国专利申请的公开内容通过引用全部包含于此。

技术领域

符合示例实施例的设备涉及一种半导体发光器件。

背景技术

半导体发光器件已经作为具有诸如相对长的寿命、低的功耗、快的响应速度和环保等的优点的下一代光源而为人所知。半导体发光器件已经作为在诸如照明装置、显示器的背光以及用于电子设备的光源的各种类型的产品中的重要的光源而变得突出。具体地,基于诸如GaN、AlGaN、InGaN或InAlGaN的第III族氮化物的氮化物基发光器件作为半导体发光器件在输出蓝光或紫外光方面起重要作用。

同时,量子效率随着注入的电流密度增大而降低的所谓的效率下降(efficiencydroop)作为基于第III族氮化物的氮化物半导体的问题被指出。因此,本领域需要改善半导体发光器件的量子效率的方法。

发明内容

本发明构思的一个或更多个示例实施例可以提供一种具有改善的光学输出和效率下降的半导体发光器件。

根据本发明构思的示例实施例,一种半导体发光器件可以包括:第一导电型半导体层;有源层,设置在第一导电型半导体层上,并且包括多个量子垒层和包含铟(In)的多个量子阱层,所述多个量子垒层和所述多个量子阱层交替地堆叠在彼此上,所述多个量子阱层包括第一量子阱层和第二量子阱层;第二导电型半导体层,设置在有源层上,其中,第一量子阱层设置成比第二量子阱层较接近于第一导电型半导体层,其中,第二量子阱层设置成比第一量子阱层较接近于第二导电型半导体层,其中,第二量子阱层的厚度大于第一量子阱层的厚度,其中,第一量子阱层和第二量子阱层中的每个包括具有变化的量的In成分的至少一个分级层,第二量子阱层的所述至少一个分级层具有比第一量子阱层的所述至少一个分级层大的厚度。

根据本发明构思的示例实施例,一种半导体发光器件可以包括:第一导电型氮化物半导体层;有源层,设置在第一导电型氮化物半导体层上,并且具有包括氮化镓(GaN)的多个量子垒层以及包括InxGa1-xN(0<x≤1)的多个量子阱层,所述多个量子垒层和所述多个量子阱层交替地堆叠在彼此上,所述多个量子阱层包括第一量子阱层和第二量子阱层;第二导电型氮化物半导体层,设置在有源层上并且具有包括AlyGa1-yN(0<y≤1)的电子阻挡层(EBL),其中,第二量子阱层设置成比第一量子阱层较接近于EBL,其中,第一量子阱层和第二量子阱层中的每个可包括在朝着第二导电型半导体层的方向上具有增大的量的In成分的第一分级层以及在朝着第二导电型半导体层的方向上具有减小的量的In成分的第二分级层,其中,第二量子阱层的第一分级层和第二分级层中的至少一个具有比第一量子阱层的第一分级层和第二分级层中的相应的一个大的厚度。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三星电子株式会社,未经三星电子株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201610881598.9/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top