[发明专利]一种氧化还原响应型溶致液晶材料

权利要求书

1.一种氧化还原响应型溶致液晶材料，其特征在于：所述材料分子式为：11-二茂铁基正十一烷基甲基丙烯酸乙酯基二甲基溴化铵，所述材料能够实现还原态(I+)和氧化态(I2+)的可逆转换。

2.如权利要求1所述的材料，其特征在于：所述可逆转换能够在室温下进行。

3.如权利要求2所述的材料，其特征在于：氧化时，在所述材料中加入1.1倍摩尔量的氧化剂硫酸铁，还原时是加入1.1倍摩尔量的还原剂抗坏血酸，所述材料的水体系在还原态时为黄色液体，氧化后为蓝色液体。

4.如权利要求3所述的材料，其特征在于：在50wt％I+水溶液中，硫酸铁氧化后，处于还原态的I+水溶液原有的三级衍射峰全部消失，I2+水溶液处于无定形态；通过光聚合的方法固定I+水溶液的溶致液晶结构，采用对浓度50wt％I+水溶液原位光聚合，发现聚合后，XRD衍射峰有序度减低，但仍然可以观察到衍射峰，说明有序结构得以保持，只是有序程度有所下降；即通过紫外光引发，成功实现了I+的光聚合，聚合后液晶织构保持。

5.如权利要求2所述的材料，其特征在于：在高浓度的I+水溶液存在溶致液晶行为；所述高浓度的I+水溶液具体为≥40wt％。

6.如权利要求5所述的材料，其特征在于：室温下I+的水溶液存在长程有序结构，I+水溶液在40～60wt％浓度范围内都是典型的层状结构，随着浓度的提高，层状结构越发规整，超过60wt％，溶液粘度很高，未观察到明显有序结构；在浓度为30wt％时，体系没有明显双折射现象即没有溶质液晶现象，当体系粘度提高到40wt％时，体系可以观察到双折射现象即开始存在溶质液晶现象，随着浓度的进一步提高，双折射现象越发明显，即溶质液晶有序度明显提高。

7.如权利要求6所述的材料，其特征在于：在紫外光下能够完成聚合。

8.一种如权利要求7所述材料的聚合方法，其特征在于：包括如下步骤：

(1)在I+的水溶液中，加入紫外光引发剂，和光交联剂，形成混合体系；

(2)对混合体系通入氩气鼓泡，进行除氧30分钟，除氧完成后，用橡皮塞密封；

(3)用紫外光光照进行聚合，所述紫外光照的光强为3mW/cm2；

(4)在I+的重水体系中，监控双键的质子峰是否完全消失，如果未完全消失，则继续步骤(3)，如果消失，则进入步骤(5)；

(5)聚合完成。

9.如权利要求8所述的方法，其特征在于：所述紫外光引发剂为2,2-二甲氧基-2-苯基乙酰苯(DMPA)，其用量为1wt％；所述光交联剂为邻苯二甲酸二烯丙酯(DAP)，其用量为2wt％。

10.如权利要求8所述的方法，其特征在于：所述聚合时间为5分钟。