[发明专利]低聚芴二醇、低聚芴二芳基酯及它们的制造方法

权利要求书

1.一种低聚芴二醇，其由下述通式(19)表示，

通式(19)中，R³为具有或不具有取代基的碳原子数1～10的亚烷基、具有或不具有取代基的碳原子数4～10的亚芳香基、或者具有或不具有取代基的碳原子数6～10的亚芳烷基；

R⁴～R⁹各自独立地为氢原子、具有或不具有取代基的碳原子数1～10的烷基、具有或不具有取代基的碳原子数4～10的芳基、具有或不具有取代基的碳原子数1～10的酰基、具有或不具有取代基的碳原子数1～10的烷氧基、具有或不具有取代基的碳原子数1～10的芳氧基、具有或不具有取代基的氨基、具有取代基的硫原子、卤原子、硝基、或者氰基；其中，R⁴～R⁹中，相邻的至少2个基团可以相互键合形成环；

n表示1～5的整数值。

2.如权利要求1所述的低聚芴二醇，其特征在于，氯的含有比例以Cl换算质量计为100质量ppm以下。

3.如权利要求1或2所述的低聚芴二醇，其特征在于，长周期型周期表第1族与第2族金属的含有比例为500质量ppm以下。

4.如权利要求1或2所述的低聚芴二醇，其特征在于，该低聚芴二醇在热重测定中的5％失重温度为250℃以上。

5.如权利要求1或2所述的低聚芴二醇，其特征在于，所述通式(19)中，R³为亚甲基、亚乙基、正亚丙基、正亚丁基、或2,2-二甲基亚丙基，R⁴～R⁹为氢原子，n为1或2。

6.下述通式(VII-1)所表示的低聚芴二酯的制造方法，其特征在于，其具有在碱存在下使下述通式(II)所表示的低聚芴化合物与下述通式(VI-1)所表示的不饱和羧酸酯发生反应的工序，

所述式中，R³为直接键合、具有或不具有取代基的碳原子数1～10的亚烷基、具有或不具有取代基的碳原子数4～10的亚芳香基、或者具有或不具有取代基的碳原子数6～10的亚芳烷基；

R⁴～R⁹各自独立地为氢原子、具有或不具有取代基的碳原子数1～10的烷基、具有或不具有取代基的碳原子数4～10的芳基、具有或不具有取代基的碳原子数1～10的酰基、具有或不具有取代基的碳原子数1～10的烷氧基、具有或不具有取代基的碳原子数1～10的芳氧基、具有或不具有取代基的氨基、具有取代基的硫原子、卤原子、硝基、或者氰基；其中，R⁴～R⁹中，相邻的至少2个基团可以相互键合形成环；

R_iii为氢原子、具有或不具有取代基的碳原子数1～10的烷基、具有或不具有取代基的碳原子数4～10的芳基、或者具有或不具有取代基的碳原子数6～10的芳烷基；

R¹⁷是碳原子数1～10的有机取代基；

n表示1～5的整数值。

7.如权利要求6所述的低聚芴二酯的制造方法，在反应工序中，利用有机层与水层的2层体系进行反应。