[发明专利]电晕处理方法

权利要求书

1.一种对薄膜的表面进行电晕处理的方法，具备如下工序：

在放电电极与接地辊之间产生电晕放电的工序，

在所述电晕放电下，使偏光膜在所述接地辊上移动而对所述偏光膜的表面进行电晕处理的工序，

在放电电极与接地辊之间产生电晕放电的工序，

在所述电晕放电下，使保护膜在所述接地辊上移动而对所述保护膜的表面进行电晕处理的工序，

以与通过电晕处理而被活化的所述偏光膜的所述表面相反的背面与导辊接触的方式输送电晕处理后的所述偏光膜的工序，

以与通过电晕处理而被活化的所述保护膜的所述表面相反的背面与导辊接触的方式输送电晕处理后的所述保护膜的工序，以及

用粘接剂或粘合剂将通过电晕处理而被活化的所述偏光膜的所述表面与通过电晕处理而被活化的所述保护膜的所述表面进行贴合的工序；

其中，所述放电电极被电极罩覆盖，

所述电极罩在所述接地辊侧具有开口部，

所述电极罩的开口部朝向斜上方或上方。

2.根据权利要求1所述的方法，其中，所述放电电极、所述接地辊及所述电极罩中的至少一个具有耐腐蚀性部件。

3.根据权利要求1所述的方法，其中，所述放电电极、所述接地辊及所述电极罩中的至少一个的表面被施以耐腐蚀处理。

4.根据权利要求1所述的方法，其中，由所述电极罩所包围的空间内的气体通过排气管进行排气，所述排气管具有耐腐蚀性部件或所述排气管的表面被施以耐腐蚀处理。

5.根据权利要求1所述的方法，其中，所述放电电极被电极夹保持，所述电极夹具有耐腐蚀性部件或所述电极夹的表面被施以耐腐蚀处理。

6.根据权利要求1所述的方法，其中，所述电极罩为透明的。

7.根据权利要求1所述的方法，其中，所述偏光膜、保护膜的长度分别为1万米以上。

8.一种偏振片的制造方法，包括权利要求1至7中任一项所述的对薄膜的表面进行电晕处理的方法。