[发明专利]在真空低温条件下应用的红外定标光源在审
申请号: | 201610890674.2 | 申请日: | 2016-10-12 |
公开(公告)号: | CN107941351A | 公开(公告)日: | 2018-04-20 |
发明(设计)人: | 张玉国;吴柯萱;孙红胜;魏建强;宋春晖 | 申请(专利权)人: | 北京振兴计量测试研究所 |
主分类号: | G01J5/52 | 分类号: | G01J5/52;G01J5/08 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 100074 北京市*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 真空 低温 条件下 应用 红外 定标 光源 | ||
1.一种在真空低温条件下应用的红外定标光源,其特征在于,该红外定标光源包括黑体辐射面、支撑结构、真空封装窗口、壳体和供电线路;
所述黑体辐射面置于所述壳体内,所述壳体由固定在一起的上部壳体和下部壳体构成,所述黑体辐射面由所述支撑结构夹持固定,所述支撑结构固定在所述壳体的底部,所述壳体顶部在所述黑体辐射面上方留有圆形光阑,所述黑体辐射面与所述光阑所在平面平行,所述真空封装窗口采用在目标波段具有较高透射率的光学材料封闭,所述上部壳体和下部壳体设有用于穿过供电线路的孔,构成所述红外定标光源的所有材料均经过真空处理;
所述壳体,采用金属或合金材料制成,其外表面利用喷砂或发黑工艺处理为粗糙黑色外表面,具有较高的发射率,内表面覆盖高反射率的金、银或铝镀层,内表面利用抛光工艺处理为光滑表面,具有较低的发射率,所述壳体经过真空处理,使之漏气率符合要求,且不产生污染;
所述黑体辐射面,采用高电阻率、耐高温、耐氧化的金属合金制成,所述黑体辐射面正对所述光阑的一面作为黑体辐射面,黑体辐射面采用喷砂或离子刻蚀工艺使其表面粗糙,采用高温氧化工艺使其具有高发射率,或者采用喷涂高发射率涂层使黑体辐射面具有高发射率,用于发射红外辐射;所述黑体辐射面另一面采用抛光工艺使其具有低发射率,将镍铬合金加热图案制备在耐高温基底上,使其具有机械强度和电阻,或者单独形成一个薄膜,保证其升温速率;
所述支撑结构,其采用耐高温、低热导率的陶瓷材料制成;
所述供电线路,采用金属导电线和导电端子制成,其用于为所述黑体辐射面供电,进而控制所述黑体辐射面的温度;
在真空低温环境中通过以下过程对所述红外定标光源进行定标:从0开始通过所述供电线路为所述红外定标光源供电,以预定功率值为步进,给所述红外定标光源施加电功率,记录该电功率对应的黑体辐射面温度值,直至所述黑体辐射面的温度达到所述红外定标光源应用环境温度上限,记录供电与温度之间的关系。
2.根据权利要求1所述的红外定标光源,其特征在于,所述薄膜呈20mm*16mm的矩形。
3.根据权利要求2所述的红外定标光源,其特征在于,采用真空密封窗口封装,所述真空封装窗口采用在目标波段具有较高透射率的光学材料制成,所述光学材料为石英、硫化锌、硒化锌、锗或硅,所述真空密封窗口的最小厚度由下式确定:
其中,Th为所述真空密封窗口的厚度,DIA为所述真空密封窗口直径,P为所述真空密封窗口所承受的压力差,MR为材料的强度表征量。
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