[发明专利]旁热式微传感器及其制造方法有效
申请号: | 201610898632.3 | 申请日: | 2016-10-14 |
公开(公告)号: | CN106629575B | 公开(公告)日: | 2018-02-13 |
发明(设计)人: | 陈滢;李昕欣;陈传钊 | 申请(专利权)人: | 中国科学院上海微系统与信息技术研究所 |
主分类号: | B81B7/02 | 分类号: | B81B7/02;B81C1/00 |
代理公司: | 上海光华专利事务所(普通合伙)31219 | 代理人: | 余明伟 |
地址: | 200050 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 式微 传感器 及其 制造 方法 | ||
1.一种旁热式微传感器,其特征在于,所述旁热式微传感器包括:
衬底,所述衬底内形成有凹槽;
焊盘,位于所述凹槽外围的所述衬底表面;
旁热式微传感器主体,位于所述凹槽的上方,且与所述凹槽的底部相隔一定间距;所述旁热式微传感器主体包括:主体支撑层、旁式加热元件、第一绝缘层及敏感电极,所述旁式加热元件及所述敏感电极位于所述主体支撑层表面,且所述旁式加热元件位于所述敏感电极的外侧,所述第一绝缘层位于所述旁式加热元件表面;
支撑梁,位于所述衬底及所述旁热式微传感器主体之间,适于将所述旁热式微传感器主体固支于所述衬底上;
疏水疏油层,位于所述第一绝缘层表面、裸露的所述主体支撑层表面、裸露的所述衬底表面及所述支撑梁表面。
2.根据权利要求1所述的旁热式微传感器,其特征在于:所述衬底包括衬底主体及绝缘支撑层,所述绝缘支撑层位于所述凹槽外围的所述衬底主体表面,所述焊盘位于所述绝缘支撑层表面。
3.根据权利要求2所述的旁热式微传感器,其特征在于:所述主体支撑层、所述支撑梁及所述绝缘支撑层为一体化结构。
4.根据权利要求1所述的旁热式微传感器,其特征在于:所述旁式加热元件为金属加热元件。
5.根据权利要求1所述的旁热式微传感器,其特征在于:所述旁式加热元件包括:
掺杂多晶硅层,位于所述主体支撑层表面;
第二绝缘层,覆盖于所述掺杂多晶硅层表面,所述第二绝缘层内形成有开口,所述开口暴露出所述掺杂多晶硅层;
引出金属层,填充于所述开口内并覆盖于所述第二绝缘层表面。
6.根据权利要求1所述的旁热式微传感器,其特征在于:所述疏水疏油层的材料为含氟材料、氯硅烷或硅氧烷。
7.一种旁热式微传感器,其特征在于,所述旁热式微传感器包括:
衬底,所述衬底内形成有凹槽;
焊盘,位于所述凹槽外围的所述衬底表面;
旁热式微传感器主体,位于所述凹槽的上方,且与所述凹槽的底部相隔一定间距;所述旁热式微传感器主体包括:主体支撑层、旁式加热元件、第一绝缘层及敏感电极,所述旁式加热元件及所述敏感电极位于所述主体支撑层表面,且所述旁式加热元件位于所述敏感电极的外侧,所述第一绝缘层位于所述旁式加热元件表面;
支撑梁,位于所述衬底及所述旁热式微传感器主体之间,适于将所述旁热式微传感器主体固支于所述衬底上;
敏感材料层,所述敏感材料层位于所述敏感电极表面。
8.根据权利要求7所述的旁热式微传感器,其特征在于:所述衬底包括衬底主体及绝缘支撑层,所述绝缘支撑层位于所述凹槽外围的所述衬底主体表面,所述焊盘位于所述绝缘支撑层表面。
9.根据权利要求8所述的旁热式微传感器,其特征在于:所述主体支撑层、所述支撑梁及所述绝缘支撑层为一体化结构。
10.根据权利要求7所述的旁热式微传感器,其特征在于:所述旁式加热元件为金属加热元件。
11.根据权利要求7所述的旁热式微传感器,其特征在于:所述旁式加热元件包括:
掺杂多晶硅层,位于所述主体支撑层表面;
第二绝缘层,覆盖于所述掺杂多晶硅层表面,所述第二绝缘层内形成有开口,所述开口暴露出所述掺杂多晶硅层;
引出金属层,填充于所述开口内并覆盖于所述第二绝缘层表面。
12.一种旁热式微传感器的制造方法,其特征在于,所述制造方法包括以下步骤:
1)提供衬底;
2)在所述衬底表面制作旁式加热元件、敏感电极及焊盘,所述旁式加热元件位于所述敏感电极外侧,所述焊盘位于所述旁式加热元件外侧,与所述旁式加热元件相隔一定间距,且所述焊盘分别与所述敏感电极及所述加热元件相连;
3)在所述敏感电极及所述焊盘表面形成金属保护层;
4)刻蚀所述衬底以释放旁热式微传感器主体,所述旁热式微传感器主体包括所述旁式加热元件、所述敏感电极及位于所述旁式加热元件、所述敏感电极下方的所述衬底;
5)在步骤4)得到的结构表面形成疏水疏油层;
6)去除位于所述金属保护层表面的疏水疏油层及所述金属保护层。
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