[发明专利]包括加热系统的用于生产三维工件的设备

权利要求书

1.一种用于生产三维工件的设备(10)，包括：

-处理室(12)，

-承载器(14)，设置在所述处理室(12)中且适于接收原料粉末层，

-控制单元(48)，

-辐照系统(16)，适于从烧结/熔化辐射发射平面(18)有选择地对施加到所述承载器(14)上的所述原料粉末层辐照电磁或粒子辐射，其中，由所述辐照系统(16)辐照的电磁或粒子辐射经由所述处理室(12)的顶壁(20)进入所述处理室(12)，并且其中，所述控制单元(48)适于对所述辐照系统(16)的操作进行控制，使得将所述原料粉末加热至允许烧结和/或熔化所述原料粉末以生成三维工件层的第一温度(T1)，以及

-加热系统(28)，适于从不同于所述烧结/熔化辐射发射平面(18)的加热辐射发射平面(30a、30b)有选择地对施加到所述承载器(14)上的所述原料粉末层辐照电磁或粒子辐射，其中，由所述加热系统(28)辐照的电磁或粒子辐射经由所述处理室(12)的侧壁(34，36)进入所述处理室(12)，并且其中，所述控制单元(48)适于对所述加热系统的操作进行控制，使得将所述原料粉末加热至比所述第一温度(T1)低的第二温度(T2)。

2.根据权利要求1所述的设备，其中，所述加热系统(28)包括：第一加热单元(32a)，所述第一加热单元适于从第一加热辐射发射平面(30a)经由所述处理室(12)的第一侧壁(34)有选择地对施加到所述承载器(14)上的所述原料粉末层辐照电磁或粒子辐射；以及第二加热单元(32b)，所述第二加热单元适于从第二加热辐射发射平面(30b)经由所述处理室(12)的第二侧壁(36)有选择地对施加到所述承载器(14)上的所述原料粉末层辐照电磁或粒子辐射。

3.根据权利要求1所述的设备，其中，所述烧结/熔化辐射发射平面(18)基本上平行于所述承载器(14)延伸。

4.根据权利要求2所述的设备，其中，所述第一加热辐射发射平面(30a)和所述第二加热辐射发射平面(30b)中的至少一个基本上垂直于所述烧结/熔化辐射发射平面(18)延伸。

5.根据权利要求1所述的设备，其中，所述加热系统(28)包括至少一个加热辐射源(44a、44b)，所述至少一个加热辐射源被设计为激光二极管的形式。

6.根据权利要求1所述的设备，其中，所述控制单元(48)适于对所述辐照系统(16)和所述加热系统(28)的操作进行控制，使得施加到所述承载器(14)上的所述原料粉末层首先有选择地受所述加热系统(28)发射的电磁或粒子辐射辐照，然后有选择地受所述辐照系统(16)发射的电磁或粒子辐射辐照。

7.根据权利要求1所述的设备，其中，所述控制单元(48)适于对所述辐照系统(16)和所述加热系统(28)的操作进行控制，使得施加到所述承载器(14)上的所述原料粉末层首先有选择地受所述辐照系统(16)发射的电磁或粒子辐射辐照，然后有选择地受所述加热系统(28)发射的电磁或粒子辐射辐照。

8.根据权利要求6所述的设备，其中，所述控制单元(48)适于对所述辐照系统(16)和所述加热系统(28)的操作进行控制，使得所述加热系统(28)发射的电磁或粒子辐射束(38a、38b)以及所述辐照系统(16)发射的电磁或粒子辐射束(22)以期望距离和/或期望时间间隔辐照在施加到所述承载器(14)上的所述原料粉末层上。

9.根据权利要求8所述的设备，其中，所述控制单元(48)适于根据原料粉末特性、原料粉末施加和辐照工艺的工艺参数中的至少一个设置所述期望距离和所述期望时间间隔中的至少一个。

10.根据权利要求2所述的设备，其中，所述第一加热辐射发射平面(30a)和所述第二加热辐射发射平面(30b)基本上平行于彼此延伸。