[发明专利]具有抗反射涂层的基板

权利要求书

1.经涂层的蓝宝石玻璃基板，所述基板在该基板的至少一侧上具有：

-沉积在所述基板上的含铝的二氧化硅层；以及

-沉积在所述含铝的二氧化硅层上的多层式的抗反射涂层，

其中，所述多层式的抗反射涂层包括至少四个彼此跟随的层并且由具有不同折射率的层来构造，其中，具有较高折射率的层和具有较低折射率的层交替，其中，所述具有较低折射率的层由具有铝份额的氧化硅来构造，其中，所述具有较高折射率的层包含氮化硅。

2.根据权利要求1所述的经涂层的基板，其特征在于，所述多层式的抗反射涂层的底层是具有较高折射率的层，第二层是具有较低折射率的层，且层堆叠的顶层是是具有较低折射率的层。

3.根据权利要求1所述的经涂层的基板，其特征在于，层堆叠的最上面的具有高折射率的层在所述层堆叠的层中具有最大的层厚度，层堆叠的顶层在所述层堆叠的层中具有第二大的层厚度，并且底层和第二层组合起来具有比所述顶层的层厚度更薄的层厚度。

4.根据权利要求1所述的经涂层的基板，其特征在于，所述具有较高折射率的层由具有铝份额的氮化硅来构造，其中铝的材料量与硅的材料量的比例大于0.05。

5.根据权利要求1所述的经涂层的基板，其特征在于，所述具有较高折射率的层由具有铝份额的氮化硅来构造，其中铝的材料量与硅的材料量的比例大于0.08。

6.根据权利要求1所述的经涂层的基板，其特征在于，所述抗反射涂层具有在总共200纳米至400纳米的范围内的层厚度。

7.根据权利要求1所述的经涂层的基板，其特征在于，所述抗反射涂层的表面具有如下的平均粗糙度和均方根粗糙度，所述平均粗糙度和均方根粗糙度关于一平方微米的面积分别为少于1.5纳米。

8.根据权利要求1所述的经涂层的基板，其特征在于，所述基板的弯曲的表面、特别是透镜表面以所述抗反射涂层来进行涂层。

9.根据权利要求1所述的经涂层的基板，其特征在于，多层堆叠由四层构成。

10.根据权利要求1所述的经涂层的基板，其特征在于，底层的层厚度为5至40纳米，第二层的层厚度为10至40纳米，对于跟着的层——层堆叠的从上面数第二层，即层堆叠的最上面的具有高折射率的层，层厚度为100至200纳米，并且顶层的层厚度为60至120纳米。

11.根据权利要求1所述的经涂层的基板，其特征在于，利用所述抗反射涂层，反射率降低多于3％，并且所述经涂层的基板具有中性色彩印象。