[发明专利]一种提高碳化硅粉源径向温度均匀性的石墨坩埚有效
| 申请号： | 201610920976.X | 申请日： | 2016-10-21 |
| 公开（公告）号： | CN106367812A | 公开（公告）日： | 2017-02-01 |
| 发明（设计）人： | 杨翠柏;方聪;陈丙振 | 申请（专利权）人： | 北京鼎泰芯源科技发展有限公司 |
| 主分类号： | C30B29/36 | 分类号： | C30B29/36;C30B23/02 |
| 代理公司： | 北京鸿元知识产权代理有限公司11327 | 代理人： | 陈英俊,许向彤 |
| 地址： | 100080 北京市海*** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 提高 碳化硅 径向 温度 均匀 石墨 坩埚 | ||
【权利要求书】：
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京鼎泰芯源科技发展有限公司，未经北京鼎泰芯源科技发展有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201610920976.X/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种基于新闻的数据处理方法及服务器
- 下一篇：确定词语位置的方法及装置
