[发明专利]杂环FXR调节剂

权利要求书

1.一种式I、II、III或IV的化合物：

其立体异构体和/或盐；其中

L是N或CR¹¹；

W是

X是经取代或未经取代的芳基或杂芳基；

Y是经取代或未经取代的苯基或吡啶基；

R¹和R²独立地是H、OH、卤基、CN、羧基、NR^aR^b或经取代或未经取代的烷基、烷氧基或羟基烷基；

R³是经取代或未经取代的烷基或环烷基；

R⁴是CN、SO₃H、CONR^aR^b、SO₂NR^aR^b、NHSO₂R^b、SO₂NHCOR^a、CO₂R^c或经取代或未经取代的四唑基或1,2,4-噁二唑-5(4H)-酮-3-基；

R⁵是H、F、Cl、Br、I、CO₂R^g、CF₃、CN、NR^gR^h、OR^g或经取代或未经取代的烷基；

R⁶、R⁸、R⁹和R¹¹独立地是H、卤基、CO₂R^g、CF₃、CN、NR^gR^h、OR^g或经取代或未经取代的烷基；

R⁷是H、卤基、CO₂R^g、CF₃、CN、NR^gR^h、OR^k或经取代或未经取代的烷基；

R¹⁰在每次出现时独立地是卤基或经取代或未经取代的烷基、烷氧基、环烷基或氟化环烷基；

R¹²是H、COR^m、经取代或未经取代的烷基、烯基、炔基、环烷基或芳基；

R^a在每次出现时独立地是H，或经取代或未经取代的烷基、卤烷基、环烷基、芳基、亚烷基-R^d或SO₂-烷基；

R^b在每次出现时是H或经取代或未经取代的烷基，或卤烷基；

R^c是H或经取代或未经取代的烷基、烯基、炔基或环烷基；

R^d是CO₂H、OH或SO₃H；

R^g和R^h在每次出现时独立地是H或经取代或未经取代的C₁-C₆烷基；

R^k是经取代或未经取代的C₁-C₆烷基；

R^m是H或经取代或未经取代的烷基、烯基、环烷基、芳基或芳烷基；

n是0、1、2、3或4；

r是1、2或3；

q、s、t和u独立地是0、1、2或3，

限制条件是：

当L是N时，那么t是1、2或3；

当q是0或1时，那么R⁵和R⁶中的至少一个不是H或n至少是1；并且

当r+q至少是3时，那么R⁵不是F。