[发明专利]一种二氧化钒复合薄膜及其制备方法

权利要求书

1.一种二氧化钒复合薄膜，其特征在于，包括基板、依次形成于所述基板表面的第一保护增透层、二氧化钒调光层和第二保护增透层，所述第一保护增透层或/和第二保护增透层的化学式为WO_3-x，其中0＜x＜0.9或M_yWO₃，其中0＜y≤1，M为Cs、Rb、K、Na、Li、Be、Mg、Ca、Sr和Ba中的至少一种；所述第一保护增透层的厚度为20～300 nm；所述第二保护增透层的厚度为20～300 nm；所述二氧化钒调光层的厚度为20～100nm。

2.根据权利要求1所述的二氧化钒复合薄膜，其特征在于，所述第一保护增透层或/和第二保护增透层的厚度为20～200nm。

3.根据权利要求1所述的二氧化钒复合薄膜，其特征在于，所述二氧化钒复合薄膜还包括形成于所述第二增透层上的功能层。

4.根据权利要求3所述的二氧化钒复合薄膜，其特征在于，所述功能层的化学组成为二氧化硅、二氧化钛、氧化锌、氮化硅、氮化镓中的至少一种。

5.根据权利要求3所述的二氧化钒复合薄膜，其特征在于，所述功能层的厚度为20～300nm。

6.根据权利要求1-5中任一项所述的二氧化钒复合薄膜，其特征在于，所述基板为普通玻璃、导电玻璃、金属、硅片、电路板、透明高分子膜或陶瓷基板。

7.一种如权利要求1-6中任一项所述二氧化钒复合薄膜的制备方法，其特征在于，包括：

采用磁控溅射方法，在所述基材表面依次沉积第一保护增透层、二氧化钒调光层、和第二保护增透层，或者在所述基材表面依次沉积第一保护增透层、二氧化钒调光层、第二保护增透层、和功能层，得到复合薄膜；

将所得复合薄膜于真空中在300～600℃下退火处理3～15分钟后随炉冷却，得到所述二氧化钒复合薄膜。

8.根据权利要求7所述的制备方法，其特征在于，以氧化钨或/和金属钨为溅射靶材、氩气和氧气为溅射气体，控制第一氧分压为30-60%，沉积所述第一保护增透层或/和第二保护增透层；或者以氧化钨或金属钨、以及金属M为靶材，氩气和氧气为溅射气体，控制第一氧分压为30-60%，所述第一保护增透层或/和第二保护增透层。

9.根据权利要求7或8所述的制备方法，其特征在于，所述磁控溅射方法的参数包括：背底真空度高于5×10^-4Pa；沉积时间3～30 min；工作总压强0.5～5Pa。