[发明专利]光罩检测装置及其方法有效

专利信息
申请号: 201610945512.4 申请日: 2016-11-02
公开(公告)号: CN107024832B 公开(公告)日: 2020-09-15
发明(设计)人: 黄彦铭 申请(专利权)人: 艾斯迈科技股份有限公司
主分类号: G03F1/84 分类号: G03F1/84
代理公司: 上海信好专利代理事务所(普通合伙) 31249 代理人: 朱成之;苗绘
地址: 中国台湾新北*** 国省代码: 台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 检测 装置 及其 方法
【说明书】:

发明公开了一种光罩检测装置及其方法。光罩检测装置包含检测基座、移动平台、转动平台、承载平台、激光测距模块、垂直位移模块、处理模块及影像采集模块。检测基座的一面上设有支架。移动平台设于检测基座的一面上。转动平台设于移动平台之上。承载平台设于转动平台的一面上。激光测距模块设于支架的一侧。垂直位移模块设于支架的一侧。处理模块控制垂直位移模块升降。影像采集模块设置于垂直位移模块上。当影像采集模块采集检测影像后,移动平台将下一个防尘膜的检测区域移至对应激光测距模块及影像采集模块的位置,以产生下一个检测区域的测距信号及检测影像,处理模块依据多个测距信号产生防尘膜高度信息,且依据各检测影像产生检测信息。

技术领域

本发明是涉及一种光罩检测装置及其方法,尤其是涉及一种可对光罩的框架上的防尘膜进行微粒检测,且通过测距后升降调整的方式,对各检测区域精准采集检测影像,以对应产生防尘膜高度信息及检测信息的光罩检测装置及其方法。

背景技术

就现有的半导体组件制造技术来说,半导体组件的电路图案是通过光罩将电路图案转印至晶圆的表面上形成的。

换言之,由于半导体组件的微小化,在制造半导体组件的过程中,光罩的缺陷将会大大影响硅晶圆表面之电路图案的质量,例如造成电路图案之扭曲或变形;而,目前最常见的造成光罩缺陷的原因在于光罩的表面附有微粒。

因此,为了维持光罩在使用期间的质量,公知技术中光罩的表面上设置一种光罩保护薄膜(pellicle),用以防止微粒掉落在光罩表面:然而,光罩保护膜的构造中所包含防尘膜在设置过程中,可能会被微粒附着,进而恐具有光罩在作业或运送途中,位于防尘膜上的微粒掉落在光罩表面的风险。

承上述,如何在光罩的使用之前,将光罩保护薄膜的防尘膜上的微粒检测出来,将是该相关产业亟需思考并解决的一大课题。

发明内容

有鉴于上述公知的问题,本发明的目的在于提供一种光罩检测装置及其方法,用以解决公知技术中所面临的问题。

基于上述目的,本发明提供一种光罩检测装置,其包含检测基座、移动平台、转动平台、承载平台、激光测距模块、垂直位移模块、处理模块及影像采集模块。检测基座的一面上设有支架。移动平台设于检测基座的一面上,且位于检测基座及支架之间,移动平台沿检测基座作第一方向位移。转动平台设于移动平台上,且沿移动平台作第二方向位移。承载平台设于转动平台的一面上,承载平台承载光罩,光罩包含基板、框架及防尘膜,框架设于基板的一面上,防尘膜设于框架上。激光测距模块设于支架一侧,激光测距模块对应防尘膜的其中一个检测区域产生测距信号。垂直位移模块设于支架的一侧。处理模块根据测距信号控制垂直位移模块升降。影像采集模块相邻激光测距模块而设置于垂直位移模块上,且于垂直位移模块升降后,采集由激光测距模块所测量的检测区域的检测影像。其中,当影像采集模块采集其中一个检测区域的检测影像后,移动平台将下一个检测区域移至对应激光测距模块及影像采集模块的位置,以产生下一个检测区域的测距信号及检测影像,处理模块根据多个测距信号产生防尘膜高度信息,且根据各检测影像产生检测信息。

较佳地,移动平台可包含导轨,转动平台沿着导轨位移。

较佳地,垂直位移模块可以垂直移动平台的方向升降 。

较佳地,检测信息可包含微粒位置、微粒尺寸或其组合。

基于上述目的,本发明再提供一种光罩检测方法,适用于光罩检测装置,光罩检测方法包含下列步骤:测量位于预设位置的光罩的防尘膜中的其中一个检测区域,并对应产生测距信号。根据测距信号控制设于垂直位移模块上的影像采集模块升降。采集对应测距信号的检测区域的检测影像。通过移动平台将另一个检测区域移至预设位置,并对应产生测距信号及采集检测影像。测量多个检测区域后,根据多个测距信号产生防尘膜高度信息。采集多个检测区域之多个检测影像后,依据各检测影像产生检测信息。

较佳地,移动平台可包含导轨,承载光罩的承载平台可沿着导轨位移。

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