[发明专利]一种等离子刻蚀机水平度的自动调节装置及方法有效

专利信息
申请号: 201610945576.4 申请日: 2016-11-02
公开(公告)号: CN108022820B 公开(公告)日: 2020-03-24
发明(设计)人: 刘季霖;连增迪;吴狄 申请(专利权)人: 中微半导体设备(上海)股份有限公司
主分类号: H01J37/02 分类号: H01J37/02;H01J37/305
代理公司: 上海信好专利代理事务所(普通合伙) 31249 代理人: 朱成之
地址: 201201 上海市浦东新*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 一种 等离子 刻蚀 水平 自动 调节 装置 方法
【权利要求书】:

1.一种等离子刻蚀机水平度的自动调节装置,其中,所述的等离子刻蚀机包含:

刻蚀机腔体,由位于顶端的顶盖,位于底端的底壁,以及连接在顶盖和底壁之间的侧壁构成;

静电吸盘,设置在刻蚀机腔体内的底壁上方,与刻蚀机腔体之间平行设置,承载及吸持基片;

其特征在于,所述的自动调节装置包含:

倾角传感器,固定安装在等离子刻蚀机的静电吸盘的圆心位置处,或者固定安装在刻蚀机腔体的顶盖的圆心位置处,且与承载基片的静电吸盘平行设置,用于检测等离子刻蚀机的倾斜角度与倾斜方向;

多个调节组件,分别连接设置在等离子刻蚀机的底部下方;

控制器,分别与倾角传感器以及各个调节组件连接,根据接收到的离子刻蚀机的倾斜角度与倾斜方向,控制各个调节组件对应进行升高或降低操作,调节等离子刻蚀机处于水平状态。

2.如权利要求1所述的等离子刻蚀机水平度的自动调节装置,其特征在于,所述的倾角传感器嵌入设置在静电吸盘内,或者通过机械结构固定连接在静电吸盘的底部下方。

3.如权利要求1所述的等离子刻蚀机水平度的自动调节装置,其特征在于,所述的倾角传感器嵌入设置在顶盖内,或者通过机械结构固定连接在顶盖的顶部上方。

4.如权利要求2或3所述的等离子刻蚀机水平度的自动调节装置,其特征在于,每个所述的调节组件包含:

支架;

电机,设置在支架上,与控制器连接;

丝杠,设置在支架内,一端与等离子刻蚀机的底部连接,另一端与电机连接;

其中,所述的电机根据控制器发出的控制信号,驱动丝杠升高或降低,调节等离子刻蚀机的水平度。

5.如权利要求4所述的等离子刻蚀机水平度的自动调节装置,其特征在于,所述的调节组件还包含地脚,设置在支架的底部,稳定支撑整个调节组件。

6.如权利要求4所述的等离子刻蚀机水平度的自动调节装置,其特征在于,至少采用三个调节组件,在一个稳定的平面内支撑并调节等离子刻蚀机的水平度。

7.一种等离子刻蚀机,其特征在于,包含上述权利要求1~6中任一项所述的自动调节装置。

8.一种等离子刻蚀机水平度的自动调节方法,采用上述权利要求1~6中任一项所述的自动调节装置实现,其特征在于,包含以下步骤:

S1、将倾角传感器固定安装在等离子刻蚀机的静电吸盘的圆心位置处,或者固定安装在刻蚀机腔体的顶盖的圆心位置处,且与等离子刻蚀机中承载基片的静电吸盘平行设置;

S2、倾角传感器检测等离子刻蚀机的倾斜角度与倾斜方向,并转换成对应的电信号输出;

S3、控制器接收倾角传感器输出的倾斜角度与倾斜方向的电信号,进行分解分析,并输出控制信号至各个调节组件;

S4、各个调节组件根据接收到的控制信号进行升高或降低操作,调节等离子刻蚀机的水平度。

9.如权利要求8所述的等离子刻蚀机水平度的自动调节方法,其特征在于,所述的S3中,具体为:控制器对接收到的倾斜角度与倾斜方向的电信号进行平面分解,确定所对应的各个调节组件需要上升或降低的高度,向各个调节组件的电机发送控制信号。

10.如权利要求8所述的等离子刻蚀机水平度的自动调节方法,其特征在于,所述的S4中,具体为:各个调节组件的电机根据接收到的控制信号,驱动对应的丝杠进行相应高度的升降,实现等离子刻蚀机水平度的调节。

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