[发明专利]化学增幅型正型抗蚀剂组合物和图案化方法

权利要求书

1.化学增幅型正型抗蚀剂组合物，其包括

(A)适应于在酸的作用下变成可溶于碱性水溶液中的聚合物，其包括具有通式(1)的重复单元并具有1,000至500,000的重均分子量，

其中，R¹⁴为氢、羟基、直链烷基、支链烷基、卤素、或三氟甲基，R¹⁵为氢、羟基、卤素或三氟甲基，R¹⁶为C₄-C₁₂叔烷基，R¹⁷为氢、任选被取代的烷基、任选被取代的烷氧基、-C(CF₃)₂-OH、其中每个烷基结构部分具有1至6个碳原子的三烷基甲硅烷基、C₄-C₂₀氧代烷氧基、四氢吡喃基氧基、四氢呋喃基氧基或三烷基甲硅烷基，R¹⁸为氢或甲基，R¹⁹为氢、甲基、烷氧基羰基、氰基、卤素、或三氟甲基，R²⁰为C₄-C₃₀取代或未取代的、直链或支链的烷基或者取代或未取代的环烷基，u为0或1至4的整数，t为0或1至5的整数，p、r和s各自为0或正数，q为正数，p+q+r+s＝1，

(B)包含羟基和/或羧基并具有1,000至100,000的重均分子量的碱溶性聚合物，所述聚合物可溶于碱性水溶液并具有在2.38重量％的四甲基氢氧化铵水溶液中的400至的碱性溶解速率，所述碱溶性聚合物以相对于每100重量份式(1)的聚合物为3至35重量份的量使用，

(C)光致产酸剂，和

(D)有机溶剂，

其中所述碱溶性聚合物(B)选自酚醛树脂、氨基甲酸酯树脂、聚羟基苯乙烯、羟基苯乙烯与含羧基的乙烯基单体的共聚物、含羧基单体的均聚物或共聚物，羟基苯乙烯与含羧基单体的共聚物，和碱溶性纤维素。

2.根据权利要求1所述的抗蚀剂组合物，其中在式(1)中，p和q在以下范围内：0.3≤p/(p+q+r+s)≤0.8和0q/(p+q+r+s)≤0.5。

3.根据权利要求1所述的抗蚀剂组合物，其中在式(1)中，p、q和s在以下范围内：0.3≤p/(p+q+r+s)≤0.8，0q/(p+q+r+s)≤0.5和0s/(p+q+r+s)0.3。

4.根据权利要求3所述的抗蚀剂组合物，其中在式(1)中，R²⁰为选自下式(4)、(5)、(6')、(6)、(6')和(6)的基团：

其中，R²⁷为甲基、乙基、异丙基、环己基、环戊基、乙烯基、乙酰基、苯基、苄基或氰基，b为0至3的整数，

其中，R²⁸为甲基、乙基、异丙基、环己基、环戊基、乙烯基、苯基、苄基或氰基，

其中，*表示价键。

5.根据权利要求1所述的抗蚀剂组合物，其中所述碱溶性聚合物(B)选自酚醛树脂，氨基甲酸酯树脂，聚羟基苯乙烯，羟基苯乙烯和含羧基的乙烯基单体的共聚物，含羧基单体的均聚物，选自丙烯酸、甲基丙烯酸、(甲基)丙烯酸酯和马来酸的含羧基单体的共聚物，羟基苯乙烯和含羧基单体的共聚物，以及碱溶性纤维素。

6.根据权利要求1所述的抗蚀剂组合物，其中所述碱溶性聚合物(B)是酚醛清漆树脂。

7.图案形成方法，包括以下步骤：

(i)将根据权利要求1所述的化学增幅型正型抗蚀剂组合物涂布至基材上并预烘焙以形成抗蚀剂膜，

(ii)将所述抗蚀剂膜曝光至具有至少300nm的波长的UV辐照，和

(iii)任选地烘焙，并将所述抗蚀剂膜在碱性水溶液中显影。