[发明专利]一种利用电子束重熔技术提高Nb‑Si基合金抗氧化性的方法

权利要求书

1.一种利用电子束重熔技术提高Nb-Si基合金抗氧化性的方法，其特征在于，所述方法包括以下步骤：

(1)以一定原子比的合金元素为合成原料，制备Nb-Si基合金基板；

(2)将Nb-Si基合金基板固定在工作台上，密封成形腔并抽至高真空状态；

(3)利用高能电子束将Nb-Si基合金基板预热至1000℃～1200℃，具体的预热参数：加速电压30kV，扫描电流9～20mA，电子束焦斑尺寸100～300μm；

(4)预热完成后，对Nb-Si基合金基板表面进行电子束扫描，使基板表面熔化和快速凝固，产生重熔层，重熔参数：加速电压30kV，扫描电流4～5mA，电子束焦斑尺寸100～300μm，扫描速度100～1000mm/s，扫描次数1～10次。

2.根据权利要求1所述的一种利用电子束重熔技术提高Nb-Si基合金抗氧化性的方法，其特征在于，步骤(1)中所选用的Nb-Si基合金的制备方法包括真空感应熔炼、电弧熔炼、电渣熔炼、定向凝固、粉末冶金。

3.根据权利要求1所述的一种利用电子束重熔技术提高Nb-Si基合金抗氧化性的方法，其特征在于，所述的Nb-Si基合金成分包括Nb、Si、Ti、Cr、Al、Hf、Ta、V、Zr、Fe、B、Ge、Ga、Sn、Mo、Re、Y、Dy、W、Ho。

4.根据权利要求1-3任一种方法所得到的电子束表面重熔Nb-Si基合金，其特征在于，冷却到室温得到细小、均匀的表面重熔层组织，组成相为Nb固溶体相和金属间化合物强化相，所述金属间化合物强化相包括Nb₅Si₃,、Nb₃Si和Cr₂Nb，相尺寸1～2μm，表面重熔层不含裂纹，与基体合金结合性较好。