[发明专利]光谱检测处理装置、方法以及药品真伪判定系统有效
申请号: | 201610955610.6 | 申请日: | 2016-10-27 |
公开(公告)号: | CN108007873B | 公开(公告)日: | 2020-12-08 |
发明(设计)人: | 陆峰;柳艳;陈辉;朱青霞;陈秀娟;李皓 | 申请(专利权)人: | 中国人民解放军第二军医大学 |
主分类号: | G01N21/25 | 分类号: | G01N21/25;G01N21/65 |
代理公司: | 上海德昭知识产权代理有限公司 31204 | 代理人: | 郁旦蓉 |
地址: | 200433 *** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 光谱 检测 处理 装置 方法 以及 药品 真伪 判定 系统 | ||
1.一种光谱检测处理装置,对来自于不同光谱数据采集系统的不同药品光谱进行质量检测,并对进行质量检测后合格的所述药品光谱进行处理,其特征在于,包括:
光谱质量检测部分和光谱处理部分,
其中,所述光谱质量检测部分用于对不同的所述药品光谱的质量进行检测,从而保证药品光谱质量符合关于药品的后续真伪判定的分析要求,具有:
接收部,接收多个所述药品光谱,与该药品光谱相对应并且至少含位移值、强度值、噪声值和与所述光谱数据采集系统相对应的最大量程值的原始光谱数据;
第一获取判断部,从所述原始光谱数据中获取最大位移值和最小位移值,并判断是否满足所述最小位移值小于预定下限值,所述最大位移值大于预定上限值的第一条件;
第一设定部,当判断满足所述第一条件时,设定所述药品光谱为第一条件合格光谱;
第二获取判断部,从所述原始光谱数据中获取最大强度值,并判断是否满足所述最大强度值小于所述最大量程值的第二条件;
第二设定部,当判断满足所述第二条件时,设定所述药品光谱为第二条件合格光谱;
第三获取判断部,根据预定获取规则从所述原始光谱数据的所述强度值中获取预定数量的极大值,并将该极大值作为特征峰值,同时获取与该特征峰值相对应的噪声值,并判断是否满足所述特征峰值和所述噪声值的比值在预定比值范围内的第三条件;
第三设定部,当判断满足所述第三条件时,设定所述药品光谱为第三条件合格光谱;
判定部,当所述药品光谱被设定为第一条件合格光谱、第二条件合格光谱、第三条件合格光谱时,判定所述药品光谱为合格光谱,
光谱处理部分,当合格光谱的个数大于等于预定个数时,分别对各个合格光谱进行处理,并将处理完的各个合格光谱进行合并处理得到合并光谱,最后设定所述合并光谱为最终光谱,
所述预定下限值为200,所述预定比值范围为0.5到3000,
所述光谱处理部分具有:
像素坏点判断处理部,判断所述合格光谱是否存在像素坏点,当存在所述像素坏点时,对存在所述像素坏点的所述合格光谱进行像素坏点修复处理得到像素修复光谱,
所述像素坏点判断处理部包括:
平均暗电流值计算单元,从所述合格光谱中获取暗电流值后求平均得到平均暗电流值;
暗电流方差计算单元,对所述暗电流值进行方差计算,得到暗电流方差值;
预定范围计算单元,将所述平均暗电流值与2-8倍的暗电流方差值进行相减和相加计算,得到预定范围;
像素坏点判断单元,判断所述合格光谱的暗电流值是否满足在所述预定范围的条件;
坏点相邻位移值获取单元,获取位于不在所述预定范围的所述暗电流值对应的位移值的前后的两个相邻位移值;
修复强度值计算单元,分别获取所述两个相邻位移值分别对应的强度值并求平均得到修复强度值;
像素坏点修复单元,将与所述不在所述预定范围的暗电流值相对应的强度值,替换为所述修复强度值,得到所述像素坏点修复光谱。
2.根据权利要求1所述的光谱检测处理装置,其特征在于:
其中,所述光谱处理部分具有:
背景扣除处理部,根据预定扣除方法对所述像素修复光谱或判断不存在所述像素坏点的所述合格光谱进行背景扣除处理得到背景扣除光谱;
平滑处理部,根据预定平滑方法对所述背景扣除光谱进行平滑处理得到平滑光谱;
光谱相似度计算部,计算所述平滑光谱的相似度;
光谱合格率判断部,判断所述相似度大于或等于预定阈值的所述平滑光谱的合格率是否满足预定合格率;
光谱合并部,当所述合格率满足预定合格率时,按预定合并方法,将所述相似度大于或等于预定阈值的平滑光谱进行合并得到所述合并光谱;
最终光谱设定部,设定所述合并光谱为所述最终光谱。
3.根据权利要求1所述的光谱检测处理装置,其特征在于:
其中,当所述第一获取判断部判断不满足所述第一条件、所述第二获取判断部判断不满足所述第二条件、或者所述第三获取判断部判断不满足所述第三条件时,所述判定部判定所述药品光谱为不合格光谱。
4.根据权利要求1所述的光谱检测处理装置,其特征在于:
其中,当所述合格光谱的个数小于预定个数时,所述光谱处理部分不对所述合格光谱进行处理。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国人民解放军第二军医大学,未经中国人民解放军第二军医大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201610955610.6/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:光谱检测修正装置、方法以及药品真伪判定系统
- 下一篇:一种环保型塑料盖