[发明专利]宽带光谱光学测量装置及等离子体处理装置

权利要求书

1.一种宽带光谱光学测量装置，其特征在于，设置在等离子体反应腔外部，该宽带光谱光学测量装置包含：

宽带光源，用于发射具有不同波长的入射光；

抛物面反射镜，用于对入射光进行准直，形成若干束平行光，通过等离子体反应腔顶部的光学窗口入射到晶圆的表面；

反射光接收组件，用于接收晶圆表面反射的光；

半透半反镜，位于所述的抛物面反射镜之后、反射光接收组件之前，若干束平行光经过半透半反镜的透射后再经光学窗口入射到晶圆的表面，晶圆表面反射的光经光学窗口后再经半透半反镜的反射后被反射光接收组件接收；

控制组件，与所述的反射光接收组件电连接，用于根据反射光接收组件接收的晶圆表面反射的光，确定晶圆刻蚀的终点。

2.如权利要求1所述的宽带光谱光学测量装置，其特征在于，所述的抛物面反射镜为90°离轴抛物面反射镜。

3.如权利要求1或2所述的宽带光谱光学测量装置，其特征在于，所述的抛物面反射镜表面镀有金属。

4.如权利要求1所述的宽带光谱光学测量装置，其特征在于，进一步包含一滤光模块，所述的滤光模块位于所述的抛物面反射镜之后、反射光接收组件之前。

5.如权利要求4所述的宽带光谱光学测量装置，其特征在于，所述的滤光模块位于抛物面反射镜与半透半反镜之间。

6.如权利要求4所述的宽带光谱光学测量装置，其特征在于，所述的滤光模块位于半透半反镜与反射光接收组件之间。

7.如权利要求4所述的宽带光谱光学测量装置，其特征在于，所述的滤光模块为滤光片。

8.如权利要求4所述的宽带光谱光学测量装置，其特征在于，所述的滤光模块为耦合在半透半反镜上的薄膜。

9.一种等离子体处理装置，其特征在于，包含：

由多个壁围成的反应腔，所述的反应腔的顶部设有一光学窗口；

设置在反应腔内的基座，用于固定晶圆；

设置在反应腔外部的宽带光谱光学测量装置，通过光学窗口入射若干束平行光至晶圆的表面，并通过光学窗口接收晶圆表面反射的光；

所述的宽带光谱光学测量装置包含：宽带光源，用于发射具有不同波长的入射光；抛物面反射镜，用于对入射光进行准直，形成若干束平行光，通过光学窗口入射到晶圆的表面；反射光接收组件，用于接收晶圆表面反射的光；半透半反镜，位于所述的抛物面反射镜之后、反射光接收组件之前，若干束平行光经过半透半反镜的透射后再经光学窗口入射到晶圆的表面，晶圆表面反射的光经光学窗口后再经半透半反镜的反射后被反射光接收组件接收；控制组件，与所述的反射光接收组件电连接，用于根据反射光接收组件接收的晶圆表面反射的光，确定晶圆刻蚀的终点。

10.如权利要求9所述的等离子体处理装置，其特征在于，所述的抛物面反射镜为90°离轴抛物面反射镜。

11.如权利要求9或10所述的等离子体处理装置，其特征在于，所述的抛物面反射镜表面镀有金属。

12.如权利要求9所述的等离子体处理装置，其特征在于，所述的宽带光谱光学测量装置还包含一滤光模块，所述的滤光模块位于所述的抛物面反射镜之后、反射光接收组件之前。

13.如权利要求12所述的等离子体处理装置，其特征在于，所述的滤光模块位于抛物面反射镜与半透半反镜之间。

14.如权利要求12所述的等离子体处理装置，其特征在于，所述的滤光模块位于半透半反镜与反射光接收组件之间。

15.如权利要求12所述的等离子体处理装置，其特征在于，所述的滤光模块为滤光片。

16.如权利要求12所述的等离子体处理装置，其特征在于，所述的滤光模块为耦合在半透半反镜上的薄膜。