[发明专利]一种高密度等离子体溅射镀膜设备在审
申请号: | 201610960003.9 | 申请日: | 2016-10-27 |
公开(公告)号: | CN106480420A | 公开(公告)日: | 2017-03-08 |
发明(设计)人: | 滕海燕 | 申请(专利权)人: | 合肥优亿科机电科技有限公司 |
主分类号: | C23C14/35 | 分类号: | C23C14/35 |
代理公司: | 合肥天明专利事务所(普通合伙)34115 | 代理人: | 娄岳,金凯 |
地址: | 230888 安徽省合肥市高*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 高密度 等离子体 溅射 镀膜 设备 | ||
【说明书】:
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