[发明专利]湿式制程装置

权利要求书

1.一种湿式制程装置，其特征在于，包括：

一第一容器，包括一第一侧壁的一开口，用于让一基板沿着所述第一容器的第一轴从所述开口离开或进入所述第一容器；

一主液体移除单元，设置在所述第一容器内部靠近所述第一侧壁与所述开口之区域，并且所述主液体移除单元包括第一风口；

一气体提供单元，提供一气体至所述主液体移除单元，以由所述第一风口流向所述基板；以及

一副液体移除单元，邻接于所述主液体移除单元，并且远离所述开口，所述副液体移除单元与所述主液体移除单元之间形成一第二风口，所述副液体移除单元包括连接至所述第一侧壁的一导板；

其中，所述主液体移除单元、所述第一侧壁、所述导板以及所述副液体移除单元之间的物质依序经过所述主液体移除单元及所述第一侧壁之间、所述导板、所述副液体移除单元往所述第二风口移动，且所述第一风口的方向与所述第一轴的第一夹角介于180-270度，所述第二风口的方向与所述第一轴的第二夹角介于180-270度，其中所述第二夹角小于所述第一夹角；

其中所述气体在所述第二风口产生的第一气体压力小于所述主液体移除单元、所述第一侧壁、所述导板以及所述副液体移除单元之间的第二气体压力。

2.如权利要求1所述之湿式制程装置，其特征在于，所述第二风口的位置较所述第一风口远离所述开口。

3.如权利要求1所述之湿式制程装置，其特征在于，所述气体是洁净干燥气体。

4.如权利要求1所述之湿式制程装置，其特征在于，所述主液体移除单元以及所述副液体移除单元设置于所述基板的上方。