[发明专利]一种自动曝光控制方法和装置以及自动曝光系统

权利要求书

1.一种自动曝光控制方法，其特征在于，应用于X线机，所述X线机，包括：高压发生器、探测器和电离室；其中，所述高压发生器发射的X射线经被照目标到达所述探测器，所述探测器根据到达的X射线成像，所述电离室根据到达所述探测器的X射线剂量生成反馈电压；所述方法，包括：

将初始管电压和初始管电流发送给所述高压发生器，以使所述高压发生器根据所述初始管电压和所述初始管电流发射X射线，开始曝光；

检测所述电离室生成的反馈电压，得到第一比较电压；

当所述第一比较电压大于或等于采样电压时，获得参考电压，所述参考电压大于所述采样电压；

继续检测所述电离室生成的反馈电压，得到第二比较电压；

当所述第二比较电压大于或等于所述参考电压时，切断所述高压发生器，停止曝光。

2.根据权利要求1所述的自动曝光控制方法，其特征在于，所述获得参考电压，包括：

获取电压模型以及所述被照目标的等效衰减厚度；

将所述等效衰减厚度和曝光管电压输入所述电压模型，得到所述参考电压，所述曝光管电压等于所述初始管电压或检测管电压，所述检测管电压为当所述第一比较电压大于或等于所述采样电压时检测得到的管电压。

3.根据权利要求2所述的自动曝光控制方法，其特征在于，所述获取电压模型，包括：

获取样本集合并构建初始模型，所述样本集合包括多组样本，每组样本包括一组等效衰减厚度、曝光管电压和参考电压；

利用所述样本集合，训练所述初始模型；

根据训练后的初始模型，得到所述电压模型。

4.根据权利要求2所述的自动曝光控制方法，其特征在于，所述获取所述被照目标的等效衰减厚度，包括：

获取厚度模型；

当所述第一比较电压大于或等于所述采样电压时，记录曝光持续的时间，得到第一时间；

将所述采样电压、所述初始管电压、所述初始管电流和所述第一时间输入所述厚度模型，得到所述等效衰减厚度；或，将所述采样电压、检测管电压、检测管电流和所述第一时间输入所述厚度模型，得到所述等效衰减厚度；

其中，所述检测管电压为当所述第一比较电压大于或等于所述采样电压时检测得到的管电压，所述检测管电流为当所述第一比较电压大于或等于所述采样电压时检测得到的管电流。

5.根据权利要求4所述的自动曝光控制方法，其特征在于，所述获取厚度模型，包括：

获取样本集合并构建初始模型，所述样本集合包括多组样本，每组样本包括一组等效衰减厚度、曝光管电压、曝光管电流、曝光持续时间和参考电压；

利用所述样本集合，训练所述初始模型；

根据训练后的初始模型，得到所述厚度模型。

6.一种自动曝光控制装置，其特征在于，应用于X线机，所述X线机，包括：高压发生器、探测器和电离室；其中，所述高压发生器发射的X射线经被照目标到达所述探测器，所述探测器根据到达的X射线成像，所述电离室根据到达所述探测器的X射线剂量生成反馈电压；所述装置，包括：高压控制模块、电压检测模块、第一比较模块、电压获取模块和第二比较模块；

所述高压控制模块，用于将初始管电压和初始管电流发送给所述高压发生器，以使所述高压发生器根据所述初始管电压和初始管电流发射X射线，开始曝光；当所述第二比较模块的比较结果为第二比较电压大于或等于参考电压时，切断所述高压发生器，停止曝光；

所述电压检测模块，用于检测所述电离室生成的反馈电压，得到第一比较电压；当所述第一比较模块的比较结果为所述第一比较电压大于或等于采样电压后，继续检测所述电离室生成的反馈电压，得到第二比较电压；

所述第一比较模块，用于比较所述第一比较电压与所述采样电压之间的大小关系；

所述电压获取模块，用于当所述第一比较模块的比较结果为所述第一比较电压大于或等于所述采样电压时，获得所述参考电压，并将所述参考电压发送给所述高压控制模块，所述参考电压大于所述采样电压；

所述第二比较模块，用于比较所述第二比较电压与所述参考电压之间的大小关系。