[发明专利]表面涂层处理在审
申请号: | 201610976836.4 | 申请日: | 2016-11-07 |
公开(公告)号: | CN107017146A | 公开(公告)日: | 2017-08-04 |
发明(设计)人: | 丽华·李·黄;施洪;李斯文 | 申请(专利权)人: | 朗姆研究公司 |
主分类号: | H01J37/32 | 分类号: | H01J37/32 |
代理公司: | 上海胜康律师事务所31263 | 代理人: | 樊英如,包孟如 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 表面 涂层 处理 | ||
1.一种用于修整在衬底上的厚度小于150μm的陶瓷层的方法,其包括:
清洁所述陶瓷层;
用脉冲准分子激光束以3-300Hz的重复频率扫描所述陶瓷层的区域。
2.根据权利要求1所述的方法,其中所述脉冲准分子激光束具有在所述陶瓷层的所述厚度上提供小于60%的透射率的波长。
3.根据权利要求2所述的方法,其中所述脉冲准分子激光器具有200至8000mJ/cm2的激光能量密度。
4.根据权利要求3所述的方法,其中所述脉冲准分子激光器提供波长在157nm和351nm之间的激光束。
5.根据权利要求4所述的方法,其中所述陶瓷层的所述区域中的每个点用10至500次激光照射处理,其中所述脉冲准分子激光束将所述陶瓷层局部加热至使所述陶瓷层熔融而不破坏所述衬底也不从所述衬底剥离的温度,其中所述熔融所述陶瓷层降低所述陶瓷层的孔隙率。
6.根据权利要求5所述的方法,其中所述清洁所述陶瓷层包括:
冲洗所述陶瓷层;
向所述陶瓷层施加超声能量;以及
干燥所述陶瓷层。
7.根据权利要求6所述的方法,其中所述陶瓷层包括氟化物、氟氧化物或含有镧系III族或IV族元素的氧化物中的至少一种。
8.根据权利要求7所述的方法,其还包括将所述衬底放置在等离子体处理室中。
9.根据权利要求8所述的方法,其还包括在所述衬底上沉积所述陶瓷层。
10.一种用于修整在衬底上的厚度小于150μm的包含氟化物、氟氧化物或包括镧系III族或IV族元素的氧化物中的至少一种的陶瓷层的方法,所述方法包括:
清洁所述陶瓷层,其中所述清洁所述陶瓷层包括:
冲洗所述陶瓷层;
向所述陶瓷层施加超声能量;以及
干燥所述陶瓷层;
用具有200至8000mJ/cm2的激光能量密度的脉冲准分子激光束以3-300Hz的重复频率且以在157nm和351nm之间的波长扫描所述陶瓷层的区域,其中所述陶瓷层的所述区域中的每个点用10至500次激光照射处理,其中所述脉冲准分子激光束将所述陶瓷层局部加热至使所述陶瓷层熔融而不破坏所述衬底也不从所述衬底剥离的温度,其中所述熔融所述陶瓷层降低所述陶瓷层的孔隙率。
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