[发明专利]辐照介质的装置和方法

权利要求书

1.一种成像系统，包括：

第一辐照单元，被配置为用入射光辐照介质；

超声器件，其将超声波发送到所述介质，以在所述介质中的某位置处将所述入射光通过频移调制成调制光；

检测单元，被配置为获得与通过调制光和参考光之间的干涉产生的干涉图案对应的信息；

第二辐照单元，被配置为用参考光辐照检测单元，参考光和入射光之间的频率差精确地或大致等于通过超声器件聚焦的超声波的频率；

包括空间光调制器的产生器，被配置为基于调制光的相位分布来产生辐照介质的重构光，其中，所述重构光是所述调制光的相位共轭波；以及

图像形成单元，被配置为基于响应于用重构光辐照介质而从介质输出的信号来形成图像。

2.根据权利要求1所述的成像系统，其中，光源所发射的波长的范围为从可见光到近红外光。

3.根据权利要求1所述的成像系统，其中，所述成像包括荧光成像。

4.根据权利要求1所述的成像系统，还包括：调制单元，用于在所述介质中的所述位置处对入射光的频率进行调制而产生调制光，

其中，调制单元包括被配置为在所述位置聚焦超声波的超声波聚焦单元。

5.根据权利要求1所述的成像系统，其中，在将重构光聚焦在介质的第一区域中的位于所述位置的聚焦体之后，在比介质的第一区域深的第二区域中设置聚集重构光的新的聚焦体。

6.根据权利要求1所述的成像系统，其中，在将重构光聚焦在位于所述位置的聚焦体之后，将重构光聚焦在介质中的比该聚焦体小的新的聚焦体。

7.根据权利要求1所述的成像系统，其中，基于由模态获得的先验信息而设置介质中的所述位置。

8.根据权利要求7所述的成像系统，其中，所述模态包括X射线成像系统、MRI、超声系统、光声成像系统、以及声光成像系统中的至少任一个。

9.根据权利要求7所述的成像系统，

其中，所述模态是获取回波图像的超声波系统。

10.根据权利要求1所述的成像系统，还包括：

控制单元，被配置为控制重构光的强度。

11.根据权利要求10所述的成像系统，

其中，所述控制单元以如下方式控制重构光的强度：即，使得重构光的强度不同于调制光的强度。

12.根据权利要求1所述的成像系统，

其中，通过使入射光的频率偏移来产生调制光。

13.根据权利要求1所述的成像系统，

其中，产生器基于波长在大于等于380nm并且小于等于2500nm的范围内的来自光源的入射光来产生重构光。

14.根据权利要求2所述的成像系统，

其中，所述成像系统用于超声调制断层成像。

15.一种成像方法，包括：

由第一辐照单元发射入射到介质上的入射光；

通过超声器件将超声波发送到所述介质，以在所述介质中的某位置处对所述入射光的频率进行调制而形成调制光；

通过检测单元获得与通过调制光和参考光之间的干涉产生的干涉图案对应的信息；

用参考光辐照检测单元，参考光和入射光之间的频率差精确地或大致等于通过超声器件聚焦的超声波的频率；

基于调制光的相位分布来产生辐照介质的重构光，其中，所述重构光是所述调制光的相位共轭波；以及

基于响应于用重构光辐照介质而从介质输出的信号来形成图像。

16.根据权利要求15所述的成像方法，其中，光源所发射的波长的范围为从可见光到近红外光。