[发明专利]VR头戴设备以及VR头戴设备的控制方法

权利要求书

1.一种VR头戴设备的控制方法，其特征在于，包括以下步骤：

读取所述VR头戴设备受到的外部压力的数据以及所述VR头戴设备与用户脸部的距离的数据；

根据所述VR头戴设备受到的外部压力和所述VR头戴设备与用户脸部的距离控制所述VR头戴设备进入休眠/唤醒状态；

其中，所述根据所述VR头戴设备受到的外部压力和所述VR头戴设备与用户脸部的距离控制所述VR头戴设备进入休眠/唤醒状态，包括：

检测是否满足休眠条件，如果满足休眠条件则控制所述VR头戴设备进入休眠；所述休眠条件为所述VR头戴设备受到的外部压力的最后一次变化为压力变小并且所述VR头戴设备与用户脸部的距离的最后一次变化为距离变大。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述休眠条件为所述VR头戴设备受到的外部压力的最后一次变化为压力变小、所述VR头戴设备与用户脸部的距离的最后一次变化为距离变大，并且所述VR头戴设备与用户脸部当前的距离大于设定的第一距离阈值。

3.根据权利要求1-2任一项所述的方法，其特征在于，所述根据所述VR头戴设备受到的外部压力和所述VR头戴设备与用户脸部的距离控制所述VR头戴设备进入休眠/唤醒状态，还包括：

检测是否满足唤醒条件，如果满足唤醒条件则唤醒所述VR头戴设备；所述唤醒条件为所述VR头戴设备受到的外部压力的最后一次变化为压力变大并且所述VR头戴设备与用户脸部的距离的最后一次变化为距离变小。

4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，所述唤醒条件为所述VR头戴设备受到的外部压力的最后一次变化为压力变大、所述VR头戴设备与用户脸部的距离的最后一次变化为距离变小，并且所述VR头戴设备与用户脸部当前的距离小于设定的第二距离阈值。

5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述根据所述VR头戴设备受到的外部压力和所述VR头戴设备与用户脸部的距离控制所述VR头戴设备进入休眠/唤醒状态，包括：

检测是否满足休眠条件，如果满足休眠条件则控制所述VR头戴设备进入休眠；所述休眠条件为所述VR头戴设备受到的外部压力小于设定的第一压力阈值并且所述VR头戴设备与用户脸部的距离大于设定的第一距离阈值。

6.根据权利要求5所述的方法，其特征在于，所述根据所述VR头戴设备受到的外部压力和所述VR头戴设备与用户脸部的距离控制所述VR头戴设备进入休眠/唤醒状态，还包括：

检测是否满足唤醒条件，如果满足唤醒条件则唤醒所述VR头戴设备；所述唤醒条件为所述VR头戴设备受到的外部压力大于设定的第二压力阈值并且所述VR头戴设备与用户脸部的距离小于设定的第二距离阈值。

7.一种用于执行上述权利要求1-6任一项所述方法的VR头戴设备，其特征在于，所述VR头戴设备包括唤醒/休眠控制电路、至少一个压力传感器以及至少一个距离传感器；所述压力传感器和所述距离传感器分别与所述唤醒/休眠控制电路电连接；其中，所述压力传感器设置于所述VR头戴设备的上边框和/或下边框的位置，所述距离传感器设置于所述VR头戴设备的内侧，所述VR头戴设备的内侧是指所述VR头戴设备被佩戴以后与用户脸部邻近的一侧。

8.根据权利要求7所述的VR头戴设备，其特征在于，所述唤醒/休眠控制电路集成在所述VR头戴设备的处理器中。

9.根据权利要求7所述的VR头戴设备，其特征在于，所述VR头戴设备还包括系统电源控制模块，所述唤醒/休眠控制电路与所述系统电源控制模块的控制端电连接。

10.根据权利要求7所述的VR头戴设备，其特征在于，所述VR头戴设备的上边框和/或下边框设有凹槽，所述压力传感器嵌入所述凹槽中。

11.根据权利要求7所述的VR头戴设备，其特征在于，所述压力传感器为多个，均匀分布于所述VR头戴设备的上边框和下边框。