[发明专利]湿式制程装置在审
申请号: | 201610983248.3 | 申请日: | 2016-11-09 |
公开(公告)号: | CN108074835A | 公开(公告)日: | 2018-05-25 |
发明(设计)人: | 黄荣龙;吕峻杰;陈滢如 | 申请(专利权)人: | 盟立自动化股份有限公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67 |
代理公司: | 上海翼胜专利商标事务所(普通合伙) 31218 | 代理人: | 翟羽 |
地址: | 中国台湾新竹*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 开口处 湿式制程 移除单元 交叉污染 开口设置 容器内部 相邻容器 喷嘴 紧靠 两组 相通 | ||
1.一种湿式制程装置,其特征在于,包括:
一第一容器,包括一第一侧壁的一第一开口,用于让一基板沿着第一轴从所述第一开口离开或进入所述第一容器,所述第一容器用于对所述基板施加第一液体;
一第二容器,包括一第二侧壁的一第二开口,所述第二开口对应所述第一开口设置,所述第二开口用于让所述基板相应地沿着所述第一轴从所述第二开口进入或离开所述第二容器,所述第二容器用于对所述基板施加第二液体;以及
一第一液体移除单元,设置于所述第一容器的所述第一侧壁至所述第一开口,并包括若干个第一喷嘴,设置在所述第一液体移除单元位于所述第一开口周围的部份;
其中所述若干第一喷嘴用于将所述第一液体吹往所述第一容器内部。
2.如权利要求1所述之湿式制程装置,其特征在于,所述第一液体移除单元设置于所述基板的上方。
3.如权利要求2所述之湿式制程装置,其特征在于,所述若干第一喷嘴的方向与所述第一轴的第一夹角介于180-270度。
4.如权利要求2所述之湿式制程装置,其特征在于,所述第一液体移除单元进一步延伸至所述第二开口,并包括若干个第二喷嘴,设置在所述第一液体移除单元相对应所述第二开口周围的部份,所述若干第二喷嘴用于在将所述第二液体吹往所述第二容器内部。
5.如权利要求4所述之湿式制程装置,其特征在于,所述若干第二喷嘴的方向与所述第一轴的第二夹角介于270-360度。
6.如权利要求2所述之湿式制程装置,其特征在于,还包括一固定装置,用于将所述第一液体移除单元在所述第二容器的部分与所述第二容器相固定。
7.如权利要求2所述之湿式制程装置,其特征在于,还包括一第二液体移除单元,设置于所述第二容器的一第二侧壁至所述第二开口,所述第一液体移除单元与所述第二液体移除单元在所述第一开口以及所述第二开口处相连接。
8.如权利要求7所述之湿式制程装置,其特征在于,所述第二液体移除单元还包括若干个第二喷嘴,设置在所述第二液体移除单元相对应所述第二开口周围的部份,所述若干第二喷嘴用于将所述第二液体吹往所述第二容器内部。
9.如权利要求8所述之湿式制程装置,其特征在于,所述若干第二喷嘴的方向与所述第一轴的第二夹角介于270-360度。
10.如权利要求8所述之湿式制程装置,其特征在于,还包括一气体供应源用于通过所述第一液体移除单元提供所述若干第一喷嘴以及通过所述第二液体移除单元提供所述若干第二喷嘴洁净干燥气体。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
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