[发明专利]Ni、S共掺杂TiO2薄膜及其应用和制备方法有效
| 申请号： | 201610983425.8 | 申请日： | 2016-11-06 |
| 公开（公告）号： | CN106521494B | 公开（公告）日： | 2018-09-11 |
| 发明（设计）人： | 刘峥;李海莹;李庆伟;黄秋梅 | 申请（专利权）人： | 桂林理工大学 |
| 主分类号： | C23C28/00 | 分类号： | C23C28/00;C25D3/56;C25D5/18;C25D15/00;C23C18/12;C23C18/04;C23F13/06 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 541004 广西壮*** | 国省代码： | 广西;45 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | ni 掺杂 tio2 薄膜 及其 应用 制备 方法 | ||
【权利要求书】：
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