[发明专利]具有至少一个视错觉图案的硅基部件的制造方法

权利要求书

1.具有至少一个视错觉图案(14、114、214、314、414、514、614、614’、714、814、914、1014、1114、1214)的至少一个硅基部件(11、111、211、311、411、511、611、611’、711、811、911、1011、1111、1211)的制造方法，其特征在于，该方法包括以下步骤：

a)形成包括硅基层(1)的衬底(10)；

b)贯穿所述硅基层(1)的厚度蚀刻至少一个孔(6)以形成所述至少一个硅基部件(11、111、211、311、411、511、611、611’、711、811、911、1011、1111、1211)的轮廓，并且在所述硅基层(1)的厚度中蚀刻盲凹部(5)以在至少一个硅基部件的表面上形成所述至少一个视错觉图案(14、114、214、314、414、514、614、614’、714、814、914、1014、1114、1214)；

c)释放由衬底(10)形成的所述至少一个硅基部件(11、111、211、311、411、511、611、611’、711、811、911、1011、1111、1211)；

其中，步骤b)包括以下阶段：

h)形成具有呈至少一个通孔和所述盲凹部的形状的开口的第一掩膜；

i)在所述第一掩膜上形成具有仅呈所述至少一个通孔的形状的至少一个开口的第二掩膜；

j)通过第一各向异性刻蚀经由所述第二掩膜中的所述至少一个开口而对所述硅基层局部地蚀刻；

k)除去所述第二掩膜；

l)通过第二各向异性刻蚀经由所述第一掩膜中的开口而对所述硅基层进行蚀刻，以得到所述至少一个通孔和所述盲凹部；

m)除去所述第一掩膜；

所述盲凹部(5)布置在所述至少一个硅基部件(11、111、211、311、411、511、611、611’、711、811、911、1011、1111、1211)的外周并且形成至少两组平行部段，第一组(918、922、1018、1022)的平行部段(919、923、1019、1023)与第二组(920、1020、1024)的平行部段(921、1021、1025)垂直，使得所述至少一个硅基部件给出所述至少一个硅基部件的表面被斜切过的错觉。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述盲凹部(5)形成至少两组平行部段，由平行部段(119、219、519、719)构成的第一组(118、218、518、718)以10°至170°的角度接合由平行部段(121、221、521、721)构成的第二组(120、220、520、720)，使得所述至少一个硅基部件给出所述至少一个硅基部件的表面包括形成边缘的两个倾斜表面的错觉。

3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述盲凹部(5)形成由弯曲部段(319、321、819、821、1119)构成的至少一个组(318、320、818、820、1118)，使得所述至少一个硅基部件给出所述至少一个硅基部件的表面呈穹顶形的错觉。

4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述盲凹部(5)形成彼此对称布置的由凹部(419、619)构成的至少一个组(418、618)，所述由凹部构成的至少一个组毗邻其中所述至少一个硅基部件(11、111、211、311、411、511、611、611’、711、811、911、1011、1111、1211)的表面不具有凹部的部分(432、632)地形成，使得所述至少一个硅基部件给出所述至少一个硅基部件的表面包括形成边缘的两个倾斜表面的错觉。

5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述盲凹部(5)形成彼此对称地布置的由凹部(1219)构成的至少一个组(1218)，所述由凹部构成的至少一个组由所述至少一个硅基部件(11、111、211、311、411、511、611、611’、711、811、911、1011、1111、1211)的不具有凹部的表面(1232)分界，使得所述至少一个硅基部件给出所述至少一个硅基部件的表面鲜明地由两种不同材料形成的错觉。

6.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述盲凹部(5)的深度介于2与100μm之间。