[发明专利]一种提高掺杂类金刚石膜层质量的方法

权利要求书

1.一种提高掺杂类金刚膜层质量的方法，所述金刚膜层基于弧光放电技术的磁过滤等离子体沉积方法制备而成；其特征在于，在工件上等离子体化学气相沉积掺杂类金刚膜层之前，在所述工件周围设置屏蔽装置，所述屏蔽装置具有开口，且所述开口正对等离子体出口；在等离子体化学气相沉积掺杂类金刚膜层过中，所述屏蔽装置不随所述工件旋转，但与所述工件等电位；

通过所述屏蔽装置，只接收正对磁过滤出口位置的等离子体密度强的离子沉积；等离子体密度分布极度不均匀位置的工件周围不进行沉积，直接被屏蔽装置所屏蔽；

其中，所述屏蔽装置开口的开口角度可调，且可调角度范围为60°～180°，进而控制膜层硬度及摩擦系数和/或精确控制膜层中元素的比例。