[发明专利]连续镀膜系统及其方法

权利要求书

1.一种连续镀膜系统，其特征在于，包括：

多个镀膜腔体单元，每个镀膜腔体单元包括镀膜工艺腔，所述镀膜工艺腔能够采用多种镀膜工艺流程进行镀膜，所述多种镀膜工艺流程包括动态镀膜、静态镀膜或扫描镀膜；

传输装置，用于传输多个基板依次通过所述多个镀膜腔体单元；以及

控制装置，用于按照生产节拍控制所述多个镀膜工艺腔对所述多个基板进行镀膜、以及控制所述传输装置传输所述多个基板。

2.如权利要求1所述的连续镀膜系统，其特征在于，所述每个镀膜腔体单元还包括第一缓冲腔和第二缓冲腔，所述第一缓冲腔、镀膜工艺腔和第二缓冲腔顺序连接。

3.如权利要求1所述的连续镀膜系统，其特征在于，所述生产节拍是所述基板在相邻两个真空腔体之间的时间间隔，所述生产节拍包括第一时间段和第二时间段，所述控制装置还用于：

在所述第一时间段内，控制每个镀膜工艺腔对位于其中的基板进行镀膜；以及

在所述第二时间段内，在所述静态镀膜或扫描镀膜工艺流程下，控制所述镀膜工艺腔停止镀膜，并且控制所述传输装置能够以第一传输速度将所述多个基板同时传输预设距离，或者在所述第二时间段内，在所述动态镀膜工艺流程下，控制所述镀膜工艺腔连续镀膜，同时控制所述传输装置将所述多个基板匀速地传输预设距离。

4.如权利要求3所述的连续镀膜系统，其特征在于，所述真空腔体包括镀膜工艺腔、缓冲腔或隔离腔。

5.如权利要求1所述的连续镀膜系统，其特征在于，所述多个镀膜腔体单元采用相同的镀膜工艺流程或者不同的镀膜工艺流程。

6.如权利要求2所述的连续镀膜系统，其特征在于，还包括位于相邻的两个镀膜腔体单元第一镀膜腔体单元和第二镀膜腔体单元之间的隔离腔，所述隔离腔的一端与所述第一镀膜腔体单元的第二缓冲腔相连接，所述隔离腔的另一端与所述第二镀膜腔体单元的第一缓冲腔相连接。

7.如权利要求6所述的连续镀膜系统，其特征在于，所述隔离腔的两端设置有真空隔离阀，分别用于将所述隔离腔与所述第一镀膜腔体单元、以及将所述隔离腔与所述第二镀膜腔体单元进行真空隔离。

8.如权利要求6或7所述的连续镀膜系统，其特征在于，所述隔离腔外部设置有与所述隔离腔相连通的抽真空装置和工艺气体充气装置。

9.如权利要求8所述的连续镀膜系统，其特征在于，所述第一镀膜腔体单元采用第一镀膜工艺气体，所述第二镀膜腔体单元采用第二镀膜工艺气体，所述工艺气体充气装置用于向所述隔离腔内充入惰性气体、所述第一镀膜工艺气体或者所述第二镀膜工艺气体。

10.如权利要求1所述的连续镀膜系统，其特征在于，所述镀膜腔体单元采用动态镀膜工艺流程，所述控制装置还用于：

在所述第一时间段内，控制所述传输装置以第二传输速度传输所述基板，使所述基板匀速地通过所述镀膜工艺腔，与此同时，控制所述镀膜工艺腔对位于其内的基板连续地镀膜；以及

在所述第二时间段内，控制所述传输装置以所述第二传输速度传输所述多个基板，使所述镀膜工艺腔内的基板匀速地进入所述第二缓冲腔，与此同时，所述第一缓冲腔内的基板以所述第二传输速度匀速地进入所述镀膜工艺腔。

11.如权利要求1所述的连续镀膜系统，其特征在于，所述镀膜腔体单元采用静态镀膜工艺流程，所述控制装置还用于：

在所述第一时间段内，控制所述传输装置使所述镀膜工艺腔内的基板保持静止，与此同时控制所述镀膜工艺腔对位于其内的基板镀膜；以及

在所述第二时间段内，控制所述传输装置以所述第一传输速度传输所述基板，使所述镀膜工艺腔内的基板匀速地进入所述第二缓冲腔，与此同时，所述第一缓冲腔内的基板以所述第一传输速度匀速地进入所述镀膜工艺腔。