[发明专利]一种刻度线标记的制作方法和不粘锅具及其制造方法有效
申请号: | 201610999262.2 | 申请日: | 2016-11-14 |
公开(公告)号: | CN108065750B | 公开(公告)日: | 2020-11-24 |
发明(设计)人: | 李洪伟;曹达华;杨玲;李兴航;李康 | 申请(专利权)人: | 佛山市顺德区美的电热电器制造有限公司 |
主分类号: | A47J27/00 | 分类号: | A47J27/00;A47J27/086;A47J36/04;A47J36/02;B05D5/08;B23K26/362 |
代理公司: | 北京润平知识产权代理有限公司 11283 | 代理人: | 蒲琳;严政 |
地址: | 528311 广东省*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 刻度 标记 制作方法 不粘锅 及其 制造 方法 | ||
1.一种刻度线标记的制作方法,其特征在于,该方法包括:
(1)在基体的内表面喷涂底油,烘干,形成不粘涂层底层;
(2)在所述不粘涂层底层的表面喷涂面油,烧结固化,形成不粘涂层面层;
其中,在形成不粘涂层底层之后、喷涂面油之前或者在形成不粘涂层面层之后,采用激光镭雕的方式在所述不粘涂层底层的表面形成刻度线标记。
2.根据权利要求1所述的方法,其中,步骤(1)中,喷涂的条件包括:基体温度为30-60℃,喷枪压力为0.15-0.6MPa,喷枪口径为0.8-1.5mm,喷涂距离为200-300mm,控制膜厚为8-25μm。
3.根据权利要求1所述的方法,其中,步骤(1)中,烘干的条件包括:温度为50-120℃,时间为3-15min。
4.根据权利要求1-3中任意一项所述的方法,其中,步骤(2)中,喷涂的条件包括:基体温度为30-60℃,喷涂压力为0.2-0.35MPa,喷枪口径为1-1.5mm,喷涂距离为200-300mm,控制膜厚为8-30μm;或者
喷涂的条件包括:采用静电喷涂方式进行喷涂,静电喷枪电压为 20-50kV,控制膜厚为30-80μm。
5.根据权利要求1-3中任意一项所述的方法,其中,步骤(2)中,烧结固化的条件包括:先在60-100℃处理10-15min,然后在260-430℃处理5-20min。
6.根据权利要求1-3中任意一项所述的方法,其中,激光镭雕的条件包括:打标频率为500-4000Hz,发射时间为0.001-20μs,线距为0.005-0.05mm,扫描速度为500-1500mm/s。
7.根据权利要求6所述的方法,其中,激光镭雕的条件还包括:在形成不粘涂层底层之后、喷涂面油之前进行激光镭雕时所用的光源为红光源或冷光源。
8.根据权利要求7所述的方法,其中,所述冷光源为绿光光源或紫光光源。
9.根据权利要求7所述的方法,其中,在形成不粘涂层面层之后进行激光镭雕时所用的光源为冷光源,且所述不粘涂层面层为透明不粘涂层面层,所述冷光源为绿光光源或紫光光源。
10.根据权利要求1-3中任意一项所述的方法,其中,该方法还包括:在步骤(1)之前,先对基体进行预处理。
11.根据权利要求10所述的方法,其中,所述预处理的方法包括:将基体依次进行除油处理、第一水洗处理、第一烘干处理、喷砂处理、碱洗处理、中和处理、第二水洗处理、任选的阳极氧化处理、任选的封孔处理和第二烘干处理。
12.根据权利要求1-3中任意一项所述的方法,其中,所述面油含有纳米银离子抗菌剂,以所述面油的重量为基准,以银离子计的纳米银离子抗菌剂的含量为0.5-5重量%。
13.根据权利要求12所述的方法,其中,以所述面油的重量为基准,以银离子计的纳米银离子抗菌剂的含量为0.8-1.5重量%。
14.一种不粘锅具,其特征在于,所述不粘锅具包括锅具基体和形成在所述锅具基体内表面上的不粘涂层,所述不粘涂层包括不粘涂层底层和不粘涂层面层,且在所述不粘涂层底层的表面形成有激光镭雕的刻度线标记。
15.根据权利要求14所述的不粘锅具,其中,所述不粘涂层为水性氟树脂涂层、陶瓷涂层或PFA粉末涂层。
16.一种不粘锅具的制造方法,其特征在于,该方法包括:在锅具基体的内表面上形成不粘涂层,所述不粘涂层的形成方法按照权利要求1-13中任意一项所述的方法进行。
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