[发明专利]具有微型锥孔的SU-8光刻胶薄膜及制备方法和应用有效
| 申请号： | 201610999881.1 | 申请日： | 2016-11-14 |
| 公开（公告）号： | CN108073034B | 公开（公告）日： | 2020-07-17 |
| 发明（设计）人： | 邹赫麟;冯建波;周毅;伊茂聪;魏宏芳 | 申请（专利权）人： | 大连理工大学;珠海赛纳打印科技股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/62 | 分类号： | G03F1/62;G03F7/26;G03F7/16 |
| 代理公司： | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人： | 陶敏;黄健 |
| 地址： | 116024 辽*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 具有 微型 su 光刻 薄膜 制备 方法 应用 | ||
1.一种具有微型锥孔的SU-8光刻胶薄膜的制备方法，其特征在于，包括如下顺序进行的步骤：
在具有PDMS层的基底上涂覆SU-8光刻胶，前烘；
采用掩膜进行间隙曝光，后烘，使SU-8光刻胶层呈弱交联状态；
显影，从PDMS层上剥离SU-8光刻胶层，得到具有微型锥孔的SU-8光刻胶薄膜；
其中，所述间隙曝光的曝光量为95-130mJ/cm2；所述后烘的温度为65-85℃，时间为1.5-10min。
2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述显影的时间为3-5min。
3.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，具有PDMS层的基底的制备方法包括：
制备含有固化剂的PDMS溶液，并将所述PDMS溶液涂覆在基底上；
加热使所述PDMS溶液固化，得到具有PDMS层的基底；
其中，在制备PDMS溶液时以及将所述PDMS溶液涂覆在基底后，去气泡处理。
4.根据权利要求3所述的制备方法，其特征在于，所述加热的温度为65-85℃，时间为30-120min。
5.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述前烘的温度为55-90℃，时间为70-130min。
6.根据权利要求5所述的制备方法，其特征在于，采用梯度升温方式进行所述前烘，梯度升温方式为：55-65℃烘干25-35min；65-70℃烘干5-15min；70-75℃烘干5-15min；75-80℃烘干5-15min；80-85℃烘干5-15min；85-90℃烘干25-35min。
7.一种具有微型锥孔的SU-8光刻胶薄膜，其特征在于，按照权利要求1至6任一所述的制备方法制得。
8.一种打印头，其特征在于，包括权利要求7所述的具有微型锥孔的SU-8光刻胶薄膜，所述具有微型锥孔的SU-8光刻胶薄膜键合在腔室壁上。
9.一种打印头的制造方法，其特征在于，在40-60℃、0.8-1.2MPa的条件下，将权利要求7所述的具有微型锥孔的SU-8光刻胶薄膜键合在腔室壁上。
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