[发明专利]用于监控构件的系统和方法在审
| 申请号： | 201611007371.8 | 申请日： | 2016-11-16 |
| 公开（公告）号： | CN106908005A | 公开（公告）日： | 2017-06-30 |
| 发明（设计）人： | B.A.尼克尔斯;P.G.博加帕;B.J.杰曼;J.L.伯恩赛德;G.L.霍维斯 | 申请（专利权）人： | 通用电气公司 |
| 主分类号： | G01B11/16 | 分类号： | G01B11/16 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司72001 | 代理人： | 严志军,傅永霄 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 用于 监控 构件 系统 方法 | ||
1. 一种用于监控构件(10)的系统(200)，所述构件(10)具有外部表面(11)和构造在所述构件(10)上的表面特征(40)，所述系统(200)包括：
数据采集装置(140)，其用于分析所述表面特征(40)；以及
对齐组件(210)，其用于对齐所述数据采集装置(140)和所述表面特征(40)，所述对齐组件(210)包括可构造在所述构件(10)上的目标特征(212)和与所述数据采集装置(140)一起构造的导引特征(214)，其中所述导引特征(214)与所述目标特征(212)的对齐使所述数据采集装置(140)和所述表面特征(40)对齐。
2.根据权利要求1所述的系统(200)，其特征在于，所述目标特征(212)与所述表面特征(40)分开。
3.根据权利要求1至2中的任一项所述的系统(200)，其特征在于，所述对齐组件(210)是物理对齐组件(210)。
4.根据权利要求3所述的系统(200)，其特征在于，所述导引特征(214)与所述目标特征(212)之间的接触导致所述数据采集装置(140)和所述表面特征(40)的对齐。
5.根据权利要求1至4中的任一项所述的系统(200)，其特征在于，所述目标特征(212)是第一磁体(222)，且所述导引特征(214)是具有相对于所述第一磁体(222)相反的磁极性的匹配的第二磁体(224)。
6.根据权利要求1至4中的任一项所述的系统(200)，其特征在于，所述目标特征(212)是凹陷(232)或凸起(234)中的一者，且所述导引特征(214)是所述凹陷(232)或所述凸起(234)中的另一者。
7.根据权利要求1所述的系统(200)，其特征在于，所述对齐组件(210)是光学对齐组件(210)，且所述目标特征(212)提供用于所述数据采集装置(140)的焦点。
8.根据权利要求1至7中的任一项所述的系统(200)，其特征在于，所述导引特征(214)与所述目标特征(212)的对齐将所述数据采集装置(140)和所述表面特征(40)沿X轴线(202)、Y轴线(204)和Z轴线(206)中的至少一者对齐。
9.根据权利要求1至8中的任一项所述的系统(200)，其特征在于，所述数据采集装置(140)包括检孔仪(130)。
10.根据权利要求9所述的系统(200)，其特征在于，所述导引特征(214)联接于所述检孔仪(130)。
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