[发明专利]一种渗花抛光砖釉料组合物及其制备方法在审
申请号: | 201611008671.8 | 申请日: | 2016-11-16 |
公开(公告)号: | CN106587628A | 公开(公告)日: | 2017-04-26 |
发明(设计)人: | 许钧强;谢义鹏;康伦国;姚东生 | 申请(专利权)人: | 合众(佛山)化工有限公司;韶关市合众化工有限公司 |
主分类号: | C03C8/20 | 分类号: | C03C8/20;C04B41/86 |
代理公司: | 深圳瑞天谨诚知识产权代理有限公司44340 | 代理人: | 李秀娟 |
地址: | 528000 广*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 抛光 釉料 组合 及其 制备 方法 | ||
1.一种渗花抛光砖釉料组合物,其特征在于:所述的渗花抛光砖釉料组合物,按重量百分比计,其组成为:水30.0~36份、发色剂/着色剂2.0~10.0份、基本釉料5.0~20.0份、助色剂1.0~5.0份、润湿分散剂0.1~1.0份、增稠剂0.1~0.5份;
其中,所述的发色剂/着色剂为过渡金属化合物的水性配合物;所述的基本釉料其主要成分是三氧化二硼、二氧化硅、三氧化二铝、氧化铅、氧化锂、氧化钠、氧化钾、氧化钙、氧化镁、氧化锌、氧化钡、五氧化二磷、二氧化钛、二氧化锆中的一种或两种以上的化合物。
2.如权利要求1所述的一种渗花抛光砖釉料组合物,其特征在于:所述的发色剂/着色剂为为与乙二胺四乙酸二钠配位的Fe3+离子、与乙二胺四乙酸二钠配位的Ni2+离子、与乙二胺四乙酸二钠配位的Co3+离子、与乙二胺四乙酸二钠配位的Mn2+离子、与乙二胺四乙酸二钠配位的Cr3+离子的化合物。
3.如权利要求1所述的一种渗花抛光砖釉料组合物,其特征在于:所述的助色剂为纳米级氧化物或其分散体溶液;进一步地,优选为纳米氧化锌、纳米氧化锌分散液、硅溶胶溶液、纳米二氧化硅、纳米二氧化钛、纳米二氧化钛分散液。
4.如权利要求1所述的一种渗花抛光砖釉料组合物,其特征在于:所述的润湿分散剂为聚丙烯酸类阴离子分散剂、聚乙二醇、柠檬酸钠、柠檬酸铵、葡萄糖酸钠、苹果酸钠三聚磷酸钠中的一种或两种以上;所述的增稠剂为淀粉、阴离子型淀粉、聚乙烯醇、纤维素、羧甲基纤维素、聚丙烯酰胺中的一种或两种以上。
5.一种如权利要求1所述的一种渗花抛光砖釉料组合物的制备方法,其特征在于,所述的制备方法,工艺如下:将基本釉料加入水中球磨1~6h,出料;向其中加入发色剂/着色剂、助色剂、润湿分散剂、增稠剂搅拌均匀包装。
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