[发明专利]抗静电光学膜层及其制造方法有效
| 申请号： | 201611022697.8 | 申请日： | 2016-11-17 |
| 公开（公告）号： | CN106896427B | 公开（公告）日： | 2018-12-25 |
| 发明（设计）人： | 黄帝钧;吴秋蕙 | 申请（专利权）人： | 住华科技股份有限公司 |
| 主分类号： | G02B1/16 | 分类号： | G02B1/16 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人： | 梁挥;鲍俊萍 |
| 地址： | 中国台湾台南*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 抗静电 光学 及其 制造 方法 | ||
1.一种抗静电光学膜层，其特征在于，包括：
一偏光板；
一树脂层，设置于该偏光板上；以及
多个金属离子，该多个金属离子吸附于该树脂层的一表面上。
2.根据权利要求1所述的抗静电光学膜层，其特征在于，基于该树脂层的重量，该多个金属离子的含量为10ppm以上。
3.根据权利要求1所述的抗静电光学膜层，其特征在于，该树脂层的该表面具有多个带负电官能基，该多个金属离子经由该多个带负电官能基吸附于该树脂层的该表面上，且/或该多个带负电官能基包括羟基。
4.根据权利要求1所述的抗静电光学膜层，其特征在于，该多个金属离子为正一价金属离子、正二价金属离子、或正一价金属离子和正二价金属离子的组合。
5.根据权利要求1所述的抗静电光学膜层，其特征在于，该树脂层为紫外线硬化型树脂层。
6.根据权利要求1所述的抗静电光学膜层，其特征在于，该抗静电光学膜层的表面阻抗为9*1013Ω以下。
7.一种抗静电光学膜层的制造方法，其特征在于，包括：
提供一保护层；
设置一树脂层于该保护层上；以及
对该树脂层的一表面进行一碱化处理，使多个金属离子吸附于该树脂层的该表面上。
8.根据权利要求7所述的抗静电光学膜层的制造方法，其特征在于，更包括：
制备一碱液，该碱液为包括该多个金属离子及多个阴离子的水溶液；
进行该碱化处理，以该碱液对该树脂层的该表面进行该碱化处理，该多个阴离子结合至该树脂层的该表面形成多个带负电官能基，该多个金属离子经由该多个带负电官能基吸附于该树脂层的该表面上；以及
干燥该树脂层的该表面，该多个金属离子形成该金属离子层于该树脂层上。
9.根据权利要求8所述的抗静电光学膜层的制造方法，其特征在于，该碱液中的该多个金属离子为正一价金属离子、正二价金属离子、或正一价金属离子和正二价金属离子的组合，且/或该多个带负电官能基包括羟基。
10.根据权利要求8所述的抗静电光学膜层的制造方法，其特征在于，该碱液的浓度为0.1N～8N。
11.根据权利要求7所述的抗静电光学膜层的制造方法，其特征在于，该碱化处理于40℃以上进行，且/或该碱化处理进行5～40秒。
12.根据权利要求11所述的抗静电光学膜层的制造方法，其特征在于，更包含将该树脂层与该保护层贴合于一偏光子薄膜之上以形成一偏光板。
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