[发明专利]笔迹数字化装置及方法在审
申请号: | 201611024869.5 | 申请日: | 2016-11-15 |
公开(公告)号: | CN108073308A | 公开(公告)日: | 2018-05-25 |
发明(设计)人: | 杨文兵 | 申请(专利权)人: | 杨文兵 |
主分类号: | G06F3/0354 | 分类号: | G06F3/0354 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 511400 广东省广州市番禺*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 笔迹 光敏 薄膜 数字化装置 透明液体 周边电路 数字化 书写层 光照 书写 光电效应 输入方式 同步显示 显示设备 可显示 透明的 原笔迹 可用 保存 透明 转化 配合 | ||
本发明公开了一种笔迹数字化装置及方法。装置包括书写层和光敏TFT薄膜及其周边电路。书写层由遇透明液体(比如水)变透明的物质构成。可用笔蘸透明液体(比如水)在上面书写并形成透明笔迹。光敏TFT薄膜能将其表面光照强度的变化转化为电的变化,再经周边电路处理,将其表面的笔迹数字化。方法是在光敏TFT薄膜的表面生成笔迹,利用光敏TFT薄膜的光电效应,将笔迹造成的光照强度的变化转变为电的变化,完成笔迹的数字化。本发明将笔迹数字化,可与显示设备配合,同步显示笔迹形成的过程,也可显示和保存书写的最后结果。同时,也提供了一种原笔迹输入方式。
技术领域
本发明涉及手写笔迹或图形的数字化,特别是基于光敏TFT薄膜的手写笔迹的数字化。
背景技术
TFT薄膜亦即薄膜晶体管,是在薄膜材料上以矩阵的形式分布很多晶体管。
光敏TFT薄膜是指TFT薄膜上的半导体材料是光敏半导体,如CCD图像传感器所用半导体或太阳能薄膜所用半导体材料。也就是说薄膜上分布的晶体管是光敏晶体管。
光敏TFT薄膜中的晶体管对光照很敏感,可将光照强度的变化转化为电的变化,且晶体管在薄膜上以矩阵形式分布,只要间距足够小,就可以检测到平面上每个点光照强度的变化,利用这个特性可将光敏TFT薄膜用于成像。
这种光敏TFT薄膜的成像功能在X射线探伤领域已有具体的应用,即平板探测器,它可将X射线的变化转变为可见光的变化,再经光敏TFT薄膜转化为电信号的变化,从而形成数字化图像。
利用光敏TFT薄膜的成像功能可将手写笔迹数字化。
发明内容
本发明提供一种装置及方法,能将笔迹数字化。
本发明的技术方案是:
一种笔迹数字化装置:
本装置外形是薄膜状,幅面大小无特别规定,按书写要求结合生产条件决定;剖面从上到下分两层,第一层书写层,第二层光敏TFT薄膜及其周边电路。
第一层书写层:用一种遇透明液体(比如水)变透明的油墨附着在第二层表面形成,呈现不透明状态,而遇透明液体(比如水)时则变为透明。
第二层光敏TFT薄膜及其周边电路:光敏TFT薄膜能将其表面的光照强度的变化转变为电的变化,周边电路能将这种电的变化数字化,以方便传输给显示设备生成数字化图像。
当用笔蘸透明液体(比如水)在书写层书写时,书写处即变为透明,亦即形成透明的笔迹,此笔迹带来光敏TFT薄膜表面光照强度的变化,此变化经周边电路的处理,即可将笔迹数字化。所述的光为自然光,也可增加辅助光源。
书写完毕后,透明液体(比如水)会自然挥发,待挥发完毕,即恢复原来状态,可再次书写。
一种笔迹数字化方法:
在光敏TFT薄膜的表面生成笔迹,笔迹会造成光敏TFT薄膜表面光照强度的变化,利用光敏TFT薄膜的光电效应,将光照强度的变化转变为电的变化,再经外围电路的处理,完成笔迹的数字化。所述的光为自然光,也可增加辅助光源。
本发明的有益效果是:可用毛笔、钢笔或经专门设计的硬笔,在其表面书写,非常接近真正的书写感觉;书写时形成真正的笔迹,并同步将此笔迹数字化;结构简单,可卷曲。
附图说明
下面结合附图和实施例对本发明进一步说明。
图1为发明的俯视图。
图2为A-A剖面图。由于厚度很薄,为便于观看,此图做了放大,不能和图1保持相同比例。
图3为实施例4的A-A剖面图。由于厚度很薄,为便于观看,此图做了放大,不能和图1保持相同比例。
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