[发明专利]一种DMD结构多轴可移动光路直写曝光机

权利要求书

1.一种DMD结构多轴可移动光路直写曝光机，其特征在于，所述DMD结构多轴可移动光路直写曝光机包括支撑结构、DMD结构、DMD结构步进轴、多个运动组件、真空吸盘；每个运动组件包括一个扫描Y轴和一个升降Z轴；真空吸盘位于运动组件上方；

所述真空吸盘包括吸盘主体和真空发生装置；吸盘主体上以行和列的形式分布一定数量的气孔，每一行气孔各对应一个继电器，每一列气孔也各对应一个继电器；每个气孔与真空发生装置之间连接有气孔开关；气孔开关同时与该气孔所在行的继电器和该气孔所在列的继电器连接，所述气孔开关位于气孔与真空发生装置连接的真空管路上；

所述气孔在吸盘主体上呈中间疏、四周密的分布形式，气孔的开口形状为正方形或长方形，所述吸盘主体的盘面为一整体盘面或由多块盘面组合而成。

2.根据权利要求1所述的DMD结构多轴可移动光路直写曝光机，其特征在于，位于吸盘主体中部区域的气孔的行间距或列间距最大为0.5-3.5英寸，位于吸盘主体边缘区域的气孔的行间距或列间距最小为3-6mm。

3.根据权利要求1所述的DMD结构多轴可移动光路直写曝光机，其特征在于，所述多个运动组件之间沿X轴方向并列设置。

4.根据权利要求1所述的DMD结构多轴可移动光路直写曝光机，其特征在于，所述真空吸盘的吸盘主体由左右两个大小相同的盘面合并而成；每个盘面对应一个运动组件。

5.根据权利要求4所述的DMD结构多轴可移动光路直写曝光机，其特征在于，所述两个盘面之间不采取任何连接，或者采用球铰链结构连接，或者采用硬连接。

6.一种权利要求1-5任一所述的DMD结构多轴可移动光路直写曝光机的分区对位聚焦方法，其特征在于，所述方法包括以下步骤：

(1)在曝光之前，CCD相机抓取PCB板四个角的定位孔的坐标后，与电子档图形文件中相对应的定位孔坐标进行比对，建立电子档图形与PCB板的实际对应关系；如果CCD相机抓取的定位孔坐标与电子档图形文件中相应的坐标一致，那么进行步骤(2)；如果CCD相机抓取的定位孔坐标与电子档图形文件中相应的坐标不一致，那么将电子档图形文件进行调整使之与CCD相机抓取的定位孔坐标保持一致，光路曝光的起始位置也随之确定，继续进行步骤(2)；

(2)在曝光之前，将待曝光区域划分为M×N个子区域；

(3)分别计算每个子区域四个顶点的最佳焦面距离；如果这四个顶点的最佳焦面距离的最大差值在允许的误差范围之内，则以这四个顶点的最佳焦面距离的平均值作为该子区域曝光的焦面距离；如果这四个顶点的最佳焦面距离的最大差值不在允许的误差范围之内，那么将该子区域再划分为A×B个二级子区域，计算每个二级子区域四个顶点的最佳焦面距离，重复进行本步骤，直至每个子区域内的最佳焦面距离在误差范围内。