[发明专利]使皮肤回春的组合物和方法有效
申请号: | 201611028183.3 | 申请日: | 2012-08-16 |
公开(公告)号: | CN107412001B | 公开(公告)日: | 2020-08-18 |
发明(设计)人: | K.萨默维尔;R.霍里 | 申请(专利权)人: | 凯诗薇有限责任公司 |
主分类号: | A61K8/73 | 分类号: | A61K8/73;A61K8/70;A61K8/04;A61Q19/08;A61K45/06;A61K36/185;A61P17/10;A61P17/18;A61K31/02;A61K31/60;A61K31/728 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 李进;李炳爱 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 皮肤 回春 组合 方法 | ||
1.一种治疗受损皮肤的系统,该系统包括药妆用制剂,其包含
水、异十二烷、全氟十氢化萘、全氟己烷、全氟全氢化菲、水解的透明质酸、旱金莲花/叶/茎提取物、视黄醇和苯氧基乙醇;
包装在气溶胶喷雾手持容器中,其中所述药妆用制剂当用气溶胶喷雾手持容器施用时形成泡沫。
2.权利要求1的系统,其中该药妆用制剂还包含烟酸或其他维生素、矿物质、酶、氨基酸、抗氧化剂、血液扩张成分或香料中的一种或多种。
3.权利要求1的系统,其中该药妆用制剂还包含HSC (疏水性鞘脂复合物)和香料中的一种或多种。
4.权利要求1的系统,其中该制剂用于治疗成人痤疮,且该制剂还包含水杨酸。
5.权利要求1的系统,其中该制剂用于治疗脂肪团,且该制剂还包含脂肪生成抑制剂、脂质生成抑制剂和/或脂解剂。
6.权利要求1的系统,其中该制剂作为化妆的粉底使用,且该制剂还包含一种或多种适宜的着色剂。
7.权利要求1的系统,其中HA的分子量为50 kDa或更小。
8.权利要求1的系统,其中HA的分子量在45kDa至55kDa范围内。
9.权利要求1的系统,其中HA的量在0.09 wt%至0.11 wt%范围内。
10.权利要求1的系统,其中该药妆用制剂是用氧部分饱和的。
11.一种治疗受损皮肤的系统,该系统包括药妆用制剂,其包含
水、全氟己烷、全氟全氢化菲、聚二甲基硅氧烷、丙二醇、新戊二醇二庚酸酯、全氟十氢化萘、旱金莲花/叶/茎提取物、异十二烷、环戊硅氧烷、硬脂酸甘油酯、鲸蜡硬脂醇、硬脂酸、月桂酰谷氨酸钠、环己硅氧烷、丙烯酸酯/C10-30烷基丙烯酸酯交联聚合物、水解的透明质酸、视黄醇、生育酚乙酸酯、氢氧化钠、乙基己基丙三醇和苯氧基乙醇;
包装在气溶胶喷雾手持容器中,其中所述药妆用制剂当用气溶胶喷雾手持容器施用时形成泡沫。
12.权利要求11的系统,其中该药妆用制剂还包含烟酸或其他维生素、矿物质、酶、氨基酸、抗氧化剂、血液扩张成分或香料中的一种或多种。
13.权利要求11的系统,其中该药妆用制剂还包含HSC (疏水性鞘脂复合物)和香料中的一种或多种。
14.权利要求11的系统,其中该制剂用于治疗成人痤疮,且该制剂还包含水杨酸。
15.权利要求11的系统,其中该制剂用于治疗脂肪团,且该制剂还包含脂肪生成抑制剂、脂质生成抑制剂和/或脂解剂。
16.权利要求11的系统,其中该制剂作为化妆的粉底使用,且该制剂还包含一种或多种适宜的着色剂。
17.权利要求11的系统,其中HA的分子量为50 kDa或更小。
18.权利要求11的系统,其中HA的分子量在45kDa至55kDa范围内。
19.权利要求11的系统,其中HA的量在0.09 wt%至0.11 wt%范围内。
20.权利要求11的系统,其中该药妆用制剂是用氧部分饱和的。
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