[发明专利]基于多通道近红外光谱成像的非侵入式颅内血肿检测方法在审

专利信息
申请号: 201611034981.7 申请日: 2016-11-09
公开(公告)号: CN106618492A 公开(公告)日: 2017-05-10
发明(设计)人: 蒋田仔;张玉瑾;张鑫;左年明 申请(专利权)人: 中国科学院自动化研究所
主分类号: A61B5/00 分类号: A61B5/00;A61B5/107
代理公司: 北京瀚仁知识产权代理事务所(普通合伙)11482 代理人: 宋宝库
地址: 100080 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 基于 通道 红外 光谱 成像 侵入 式颅内 血肿 检测 方法
【权利要求书】:

1.一种基于多通道近红外光谱成像的非侵入式颅内血肿检测方法,其特征在于,所述颅内血肿检测方法包括以下步骤:

在全头皮表面粗尺度检测颅内血肿位置;

精细尺度检测血肿边界;

根据血肿边界计算血肿大小。

2.根据权利要求1所述的基于多通道近红外光谱成像的非侵入式颅内血肿检测方法,其特征在于,所述在全头皮表面粗尺度检测颅内血肿位置的步骤进一步包括:

通过多通道近红外光谱成像装置在全头皮表面粗尺度检测颅内血肿位置。

3.根据权利要求2所述的基于多通道近红外光谱成像的非侵入式颅内血肿检测方法,其特征在于,所述通过多通道近红外光谱成像装置在全头皮表面粗尺度检测颅内血肿位置的步骤进一步包括:

通过两个多通道近红外光谱成像装置同时在头皮表面左右两侧对称的区域检测颅内血肿位置。

4.根据权利要求3所述的基于多通道近红外光谱成像的非侵入式颅内血肿检测方法,其特征在于,所述通过两个多通道近红外光谱成像装置同时在头皮表面左右两侧对称的区域检测颅内血肿位置的步骤进一步包括:

在颅内血肿检测的过程中,两个多通道近红外光谱成像装置始终对称于头皮表面的左右中分线;

在颅内血肿检测的过程中,根据ΔOD值进行检测结果分析:

<mrow><mi>&Delta;</mi><mi>O</mi><mi>D</mi><mo>=</mo><msub><mi>log</mi><mn>10</mn></msub><mrow><mo>(</mo><mfrac><msub><mi>I</mi><mrow><mi>l</mi><mi>e</mi><mi>f</mi><mi>t</mi></mrow></msub><msub><mi>I</mi><mrow><mi>r</mi><mi>i</mi><mi>g</mi><mi>h</mi><mi>t</mi></mrow></msub></mfrac><mo>)</mo></mrow></mrow>

Ileft是左侧多通道近红外光谱成像装置检测到的近红外光输出量,Iright是右侧多通道近红外光谱成像装置检测到的近红外光输出量,

当ΔOD为正且大于设定的阈值时,右侧多通道近红外光谱成像装置的下方存在血肿,

当ΔOD为负且小于设定的阈值时,左侧多通道近红外光谱成像装置的下方存在血肿。

5.根据权利要求4所述的基于多通道近红外光谱成像的非侵入式颅内血肿检测方法,其特征在于,所述精细尺度检测血肿边界的步骤进一步包括:

检测到血肿位置的多通道近红外光谱成像装置进一步对所述血肿周边的4-8个区域进行血肿检测;

当所述血肿位置的周边的边缘处没有检测到新的血肿时,确定血肿边界;

当所述血肿位置的周边的边缘处检测到新的血肿时,所述多通道近红外光谱成像装置进一步对所述新血肿周边的4-8个区域进行血肿检测。

6.根据权利要求5所述的基于多通道近红外光谱成像的非侵入式颅内血肿检测方法,其特征在于,所述近红外光的波长在650nm-950nm之间。

7.根据权利要求2至6中任一项所述的基于多通道近红外光谱成像的非侵入式颅内血肿检测方法,其特征在于,所述多通道近红外光谱成像装置包括观测模块。

8.根据权利要求7所述的基于多通道近红外光谱成像的非侵入式颅内血肿检测方法,其特征在于,所述观测模块设置有多个性能相同的近红外成像通道,且左右两侧的观测模块上的近红外成像通道相互对应。

9.根据权利要求8所述的基于多通道近红外光谱成像的非侵入式颅内血肿检测方法,其特征在于,所述近红外成像通道包括发光光源和用于检测近红外光输出量的检测探头。

10.根据权利要求2至6中任一项所述的基于多通道近红外光谱成像的非侵入式颅内血肿检测方法,其特征在于,

通过多通道近红外光谱成像装置以脑叶为单位在全头皮表面粗尺度检测颅内血肿;或者

通过多通道近红外光谱成像装置根据国际通用的10-20标准在全头皮表面粗尺度检测颅内血肿。

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