[发明专利]感光性组合物、固化膜制法、固化膜、触控板及显示装置在审
申请号: | 201611042313.9 | 申请日: | 2016-11-21 |
公开(公告)号: | CN106933031A | 公开(公告)日: | 2017-07-07 |
发明(设计)人: | 藤木优壮;铃木成一 | 申请(专利权)人: | 富士胶片株式会社 |
主分类号: | G03F7/027 | 分类号: | G03F7/027;G03F7/033;G02F1/1337;G02F1/1333;G03F7/40 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司11021 | 代理人: | 葛凡 |
地址: | 日本国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 感光性 组合 固化 制法 触控板 显示装置 | ||
1.一种感光性组合物,其含有:
具有2个以上烯属不饱和基团的化合物、
光聚合引发剂、
含有下述式1所示的结构单元a1及具有羧酸酐结构的结构单元a2的聚合物A1、
粒子、和
溶剂,
所述聚合物A1中的结构单元a1与结构单元a2的摩尔含量比例为a1∶a2=3∶1~6∶1的范围,
所述聚合物A1的酸酐值为1.30~3.00mmol/g,
所述粒子的数均一次粒径为10~200nm,
式1中,R1各自独立地表示羟基、烷基、芳基、烷氧基、羧基或卤原子,R2表示氢原子、烷基或芳基,n表示0~5的整数。
2.根据权利要求1所述的感光性组合物,其中,
所述聚合物A1的含量相对于感光性组合物的总固体成分为0.5~8质量%。
3.根据权利要求1或2所述的感光性组合物,其中,
所述粒子的含量相对于感光性组合物的总固体成分为10~40质量%。
4.根据权利要求1或2所述的感光性组合物,其中,
所述具有2个以上烯属不饱和基团的化合物的含量相对于感光性组合物的总固体成分为30~70质量%。
5.根据权利要求1或2所述的感光性组合物,其还含有阻聚剂。
6.根据权利要求1或2所述的感光性组合物,
感光性组合物的相对于总固体成分的酸值为100mgKOH/g以下。
7.根据权利要求1或2所述的感光性组合物,其中,
所述结构单元a2为包含五元环的环状羧酸酐结构的结构单元。
8.根据权利要求1或2所述的感光性组合物,其中,
所述结构单元a2含有下述式a2-1所示的结构单元和/或下述式a2-2所示的结构单元,
9.根据权利要求1或2所述的感光性组合物,其中,
所述结构单元a2含有下述式a2-1所示的结构单元,
10.一种固化膜的制造方法,其至少依次包括工序a~工序d:
工序a:将权利要求1或2所述的感光性组合物涂布于基板上的涂布工序;
工序b:从所涂布的感光性组合物除去溶剂的溶剂除去工序;
工序c:利用活化光线对除去溶剂后的感光性组合物的至少一部分进行曝光的曝光工序;以及
工序d:对感光性组合物进行热处理的热处理工序。
11.一种固化膜的制造方法,其至少依次包括工序1~工序5:
工序1:将权利要求1~9中任一项所述的感光性组合物涂布于基板上的涂布工序;
工序2:从所涂布的感光性组合物除去溶剂的溶剂除去工序;
工序3:利用活化光线对除去溶剂后的感光性组合物的至少一部分进行曝光的曝光工序;
工序4:利用水性显影液对经曝光的感光性组合物进行显影的显影工序;以及
工序5:对经显影的感光性组合物进行热处理的热处理工序。
12.根据权利要求11所述的固化膜的制造方法,其中,
工序5中的热处理温度为80~150℃。
13.一种固化膜,其是将权利要求1~9中任一项所述的感光性组合物固化而成的。
14.根据权利要求13所述的固化膜,其是层间绝缘膜或外涂膜。
15.一种触控板,其具有权利要求13或14所述的固化膜。
16.一种显示装置,其具有权利要求13或14所述的固化膜。
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