[发明专利]选择性近红外光响应形状记忆聚合物复合材料及其制备方法

权利要求书

1.选择性近红外光响应形状记忆聚合物复合材料，其特征在于：采用稀土有机配合物作为选择性光热填料，采用EVA或PMMA作为聚合物基体材料；所述稀土有机配合物的通式为RM_mN_n，其中：

R表示镱或钕；

M表示羧酸类有机配体，m＝0-4；

N表示共轭类有机配体，n＝0-4；

聚合物基体材料为100份，采用化学方法将光热填料与聚合物基体材料混合时的光热填料为0.1-20份。

2.根据权利要求1所述的选择性近红外光响应形状记忆聚合物复合材料，其特征在于：所述M为羧酸类有机物，N为β-二酮类有机物、亚砜类有机物、1,10-邻菲罗啉、2,2’-联吡啶、2,2’-联吡啶的衍生物、正三辛基氧膦、三苯基氧化膦中的任一种。

3.根据权利要求2所述的选择性近红外光响应形状记忆聚合物复合材料，其特征在于：所述羧酸类有机物为氨基酸、带双键的不饱和羧酸、卤代苯甲酸、氨基苯甲酸、羟基苯甲酸中的一种或多种；所述β-二酮类有机物为α-噻吩甲酰三氟丙酮、二苯甲酰甲烷、苯甲酰三氟丙酮中的任一种；所述亚砜类有机物为甲基取代亚砜的一个原子形成的亚砜类有机物、卤素取代亚砜的一个原子形成的亚砜类有机物、苯基取代亚砜的一个原子形成的亚砜类有机物、甲基取代双亚砜的两个原子形成的亚砜类有机物、卤素取代双亚砜的两个原子形成的亚砜类有机物、苯基取代双亚砜的两个原子形成的亚砜类有机物中的任一种；所述2,2’-联吡啶的衍生物为双蒎烯-2,2’-联吡啶。

4.根据权利要求1所述的选择性近红外光响应形状记忆聚合物复合材料，其特征在于：所述稀土有机配合物的制备方法包括以下步骤：

S1：将A mol稀土氯化物溶解于10mL-10L乙醇中，生成稀土氯化物溶液；如果羧酸类有机配体在室温下是液体，则直接将B mol羧酸类有机配体作为第一试剂；如果羧酸类有机配体在室温下不是液体，则将B mol羧酸类有机配体溶解于10mL-10L乙醇中，生成羧酸类有机配体溶液并作为第一试剂；如果共轭类有机配体在室温下是液体，则直接将C mol共轭类有机配体作为第二试剂；如果共轭类有机配体在室温下不是液体，则将C mol共轭类有机配体溶解于10mL-10L乙醇中，生成共轭类有机配体溶液并作为第二试剂；A、B和C的范围均是0.001～1；

S2：向置于水浴或者油浴装置中的三口烧瓶内依次滴加步骤S1得到的稀土氯化物溶液、第一试剂和第二试剂；

S3：采用1mol/L的氢氧化钠溶液将步骤S2得到的反应体系的pH值调节至6或者7；

S4：将步骤S3得到的反应体系在温度为40-70℃的条件下反应200-3600min；

S5：将步骤S4得到的反应体系进行离心洗涤真空烘干，并用干燥的器皿密封储存，即得到稀土有机配合物。

5.一种制备选择性近红外光响应形状记忆聚合物复合材料的方法，其特征在于：所述复合材料通过化学方法将选择性光热填料和聚合物基体材料混合制备得到；其中，采用稀土有机配合物作为选择性光热填料，采用EVA或PMMA作为聚合物基体材料；稀土有机配合物的通式为RM_mN_n，其中：

R表示镱或钕；

M表示羧酸类有机配体，m＝0-4；

N表示共轭类有机配体，n＝0-4；

聚合物基体材料为100份，化学方法混合时光热填料为0.1-20份。